Ионно-плазменные технологии и оборудование

Save this PDF as:
 WORD  PNG  TXT  JPG

Размер: px
Начинать показ со страницы:

Download "Ионно-плазменные технологии и оборудование"

Транскрипт

1 Ионно-плазменные технологии и оборудование

2 ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ ПО ОБРАБОТКЕ ЛИСТОВОГО СТЕКЛА: СЕРИЯ «ОПАЛ» Предназначены для осаждения низкоэмиссионных, отражающих и тонирующих покрытий на лстовое стекло размером 1605х3005 мм2 Установка «Опал»-3Про на производстве Установка «Опал»-3Про на этапе монтажа Структура наносимого теплоотражающего покрытия TiO2(SnO2)-[Ni (80%), Cr (20%)]-Ag-[Ni(80%), Cr(20%)]-TiO2(SnO2). Установка содержит специальную загрузочную камеру, которая позволяет в одном операционном цикле производить как загрузку, так и выгрузку. 2 максимальный размер обрабатываемого стекла, мм 1605х3005 число планарных магнетронов, шт. 3 число дуальных магнетронов, шт. 6 число ионных источников, шт. 2 скорость движения каретки со стеклом, мм/с 2-80 максимальное остаточное давление газа, Па 5х10-3 неравномерность осажденной пленки по длине магнетрона (+/-)1% максимальная потребляемая мощность, квт занимаемая площадь, м 250

3 ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ СЕРИИ КО МКР Предназначены для металлизации крупногабаритных рефлекторов КО МКР предназначена для нанесения радиоотражающего покрытия на поверхность рефлекторов наземного и космичекого базирования диаметром до 3 м и стрелой прогиба до 1 м. Установка КО МКР на производстве Установка КО МКР снабжена системой автоматического нагрева рефлектора до заданной температуры и стабилизации ее с точностью не 0 хуже 2 С. Установка КО МКР обеспечивает нанесение радиоотражающего покрытия заданной толщины с равномерностью не хуже 5%, с адгезией не 2 менее 60 кг/см и коэффициентом отражения на частотах 24 и 33 ГГц не хуже 98%. остаточное давление, Па 5х10-4 диаметр мишени (катода) круглых магнетронов, мм 250 размер мишени (катода) планарных магнетронов, мм2 100х700 максимальный ток магнетронного разряда, А 15 потребляемая мощность, квт установочная площадь с зоной обслуживания, м 60

4 ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ СЕРИИ «ЯШМА» Предназначены для производства изделий с модифицированными поверхностными свойствами в результате воздействия потоков распыленных частиц и ускоренных ионов. Установки АРМ НТП-2 и «Яшма-5» на производстве Конструкция установки обеспечивает осаждение покрытий в среде рабочего газа или смеси двух газов, что позволяет получить пленки заданного стехиометрического состава (оксиды, нитриды). Имплантер генерирует вертикальный пучок газовых ионов в широком диапазоне энергий. остаточное давление, Па 5х10-4 скорость перемещения рабочего стола, мм/с материал катода немагнитные металлы и сплавы вид ускоряемых ионов газовые потребляемая мощность установки, квт 40 2 установочная площадь с зоной обслуживания, м 20

5 КОМПЛЕКТ ИСПЫТАТЕЛЬНОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ИМИТАЦИИ ВОЗДЕЙСТВИЯ ФАКТОРОВ КОСМИЧЕСКОГО ПРОСТРАНСТВА НА КОНСТРУКЦИОННЫЕ МАТЕРИАЛЫ Установка ВУ КГ предназначена для определения кинетики газовыделения покрытий. остаточное давление, Па 6х диапазон нагрева образцов, С скорость нагрева образца, С/мин чувствительность вакуумных весов, г термостатирование, С поддержание температуры, 0С ±1 Установки ВУ КГ Установка ВУ ЗСПГ предназначена для определения загрязняющей способности продуктов газовыделения покрытий. Установка ВУ ЗСПГ остаточное давление, Па 6,7х10-4 диапазон термостатирования датчиков КВМ, С скорость нагрева образца, С/мин чувствительность вакуумных весов, г 10-7 термостатирование, С точность поддержание температуры, 0С ±1

6 Установка ВУ СКМ предназначена для испытаний образцов покрытий на комплексное воздействие факторов эксплуатации (вакуум, электроны, протоны, солнечное излучение, температура). Система облучения образцов электронами укомплектована двумя источниками электронов (энергии 50 и 100 кэв). Система облучения образцов протонами укомплектована источником протонов, позмакет установки ВУ СКМ воляющим проводить облучение образцов частицами с энергией до 50 кэв. Система облучения образцов укомплектована имитатором солнечного излучения ИСО-СКМ-1. Термостатирование термостола с образцами в процессе облучения обеспечивается прокачкой теплоносителя через термостол криорефрежераторного типа. Система оптических измерений обеспечивает измерение спектрального отражения и коэффициента поглощения солнечной радиации испытываемых материалов в вакууме в диапазоне нм. Установка ВУ СТАНДАРТ предназначена для определения параметров газовыделения неметаллических материалов по ГОСТ Р остаточное давление, Па 5х10 Т блока нагрева, 0С 125±1 0 Т блока конденсации, С 25±0,5 Установка ВУ СТАНДАРТ на производстве

7 ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЁНОК ИЗ ПЛАЗМЫ ВЧ-РАЗРЯДА Предназначены для разработки технологий получения нанокластерированных ферромагнитных материалов для приборов спиновой наноэлектроники, биосовместимых кальций-фосфатных, диэлектрических и других покрытий. Установки для нанесения кальций-фосфатных покрытий на рабочем месте остаточное давление рабочей камеры, Па 5х10-4 ток ионного пучка, А 0,1...0,5 материал катода магнитные металлы, керамика, композиты масса установки, кг 450 установочная площадь с зоной обслуживания, м2 12

8 ИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ УСТАНОВКА РМ РТМ Предназначена для отработки технологий осаждения радиотехнических и терморегулирующих покрытий. Установка РМ РТП -4 остаточное давление, Па 10 скорость вращения барабана, об/мин напряжение питания магнетронов, ток магнетронного разряда, А 0, напряжение ионного источника, кв ток ионного пучка, А 0,1...1 материал катода немагнитные металлы и сплавы масса установки, кг 650 установочная площадь с зоной обслуживания, м2 12

9 СИСТЕМА ИОННО-ПУЧКОВОЙ ФИНИШНОЙ ОБРАБОТКИ ТВЭЛов ВОДНО-ВОДЯНЫХ РЕАКТОРОВ Предназначена для очистки и полировки поверхности тепловыделяющих элементов водоводяных реакторов длиной до 500 мм. Конструкция установки обеспечивает осаждение плёнки легирующих элементов на поверхность трубок ТВЭлов с помощью источников плазмы магнетронного типа. Установка КВК на рабочем месте -4 остаточное давление, Па 10 ток ионного пучка, А 0,9 ток магнетронного разряда, А 0,5...9 напряжение ионного источника, кв 3,5 скорость вращения кассеты, об/мин 1,8 скорость вращения ТВЭЛа, об/мин потребляемая мощность установки, квт 15 масса установки, кг 650

10 ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ СЕРИИ АРМ УВК Предназначены для производства радиотехнических, терморегулирующих и многофункциональных покрытий на рулонных полимерных плёнках в лентопротяжном устройстве или на охлаждаемом барабане. Установка АРМ УВК-1 на производстве Лентопротяжный механизм на установке АРМ УВК-2 остаточное давление, Па 5х10-4 скорость перемещения магнетронов, мм/с максимальный ток магнетронного разряда, А 15 материал катодов металлы и сплавы вид ускоряемых ионов газовые потребляемая мощность, квт 60 габаритные размер, мм2 4500х3000 масса установки, кг 3700

11 ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА «КРИСТАЛЛ» Предназначена для выращивания кристаллов из расплава по методу Бриджмена-Стокбаргера. Особенность установки - наличие возможности её модернизации под различные методы выращивания кристаллов. Установка имеет прецизионные охлаждаемые привода вращения с регулируемой скоростью вытягивания и контролем положения. Высокоточный контроль температуры нагревателя и градиента температуры вне нагревателя осуществляется с помощью двуволновых пирометров и высокотемпературной термопары. -3 остаточное давление, Па 10 избыточное давление инертного газа, кгс/см2 3 размеры выращиваемых кристаллов: - длина не более, мм диаметр не более, мм 70 - масса не более, кг 9 потребляемая мощность, квт 70 масса, кг 1500

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВСЕРОССИЙСКИЙ НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВИАМ предлагает изготовление и поставку оборудования

Подробнее

Содержание. Введение... 8

Содержание. Введение... 8 Содержание Введение... 8 ЧАСТЬ 1. НАПЫЛЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК...11 Глава 1. Технологические особенности нанесения резистивных слоев...11 1.1 Резисторы из силицидов тугоплавких металлов...11 1.2. Способы получения

Подробнее

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700 Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий Производство всех типов нанокомпозитных покрытий различного назначения (упрочняющих, защитных, трибологических, многофункциональных и др.) для широкого

Подробнее

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике»

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» п/п Лекционные занятия Варианты курсов Прим. Наименование раздела, темы «Оператор» 0лк 0 пр., нед.

Подробнее

Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013

Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013 Берлин Е. В., Григорьев В. Ю. Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013 ВТТ 2015 Санкт-Петербург Серия «Ника-2012» Современный аналог колпаковых машин серии УВН-71. Состав: Камера нерж. Ø400х350

Подробнее

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12 Ñîäåðæàíèå Предисловие 11 Введение 12 Глава 1. Пробои на катоде магнетрона 16 1.1. Что такое пробой 16 1.2. Механизм возникновения пробоев на катоде 17 1.3. Причины пробоев на катоде при реактивном магнетронном

Подробнее

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н.

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. УДК 621.793.6:669.35 С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. МАГНЕТРОННЫЙ МЕТОД НАНЕСЕНИЯ СЕРЕБРЯНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ

Подробнее

Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники

Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" ОАО НИИТМ Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники Сентябрь

Подробнее

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме.

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. д.т.н. Григорьянц А.Г., к.т.н. Мисюров А.И., аспирант Макаров В.В. Проведен анализ вакуумных методов формирования квантоворазмерных наноструктур.

Подробнее

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПРОМЫШЛЕННЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ В. Одиноков, Г. Павлов http://www.niitm.ru/ info@niitm.ru СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ НИИ точного машиностроения (НИИТМ) основан

Подробнее

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом УДК 67.05 Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом Зимин Д.Д., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана, кафедра «Плазменные

Подробнее

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев ООО «Ионные источники и Технологии», Московская область, Россия. Нанесение оптических покрытий с ионным ассистированием

Подробнее

Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия

Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия УДК 621.793 Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия Введение Демидов П.С., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана, кафедра

Подробнее

Исследование деградации изоляционных материалов с защитными газонепроницаемыми слоями под воздействием факторов открытого космоса /515949

Исследование деградации изоляционных материалов с защитными газонепроницаемыми слоями под воздействием факторов открытого космоса /515949 Исследование деградации изоляционных материалов с защитными газонепроницаемыми слоями под воздействием факторов открытого космоса 77-48211/515949 # 12, декабрь 2012 Башков В.М., Литвак Ю.Н., Макеев М.О.,

Подробнее

Материалы Международной научно-технической конференции, 3 7 декабря 2012 г.

Материалы Международной научно-технической конференции, 3 7 декабря 2012 г. Материалы Международной научно-технической конференции, 3 7 декабря 2012 г. МОСКВА INTERMATIC 2 0 1 2, часть 2 МИРЭА ИССЛЕДОВАНИЕ ДЕГРАДАЦИИ ИЗОЛЯЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ КОСМИЧЕСКОГО НАЗНАЧЕНИЯ С ЗАЩИТНЫМИ

Подробнее

Развитие инжекторной программы Института

Развитие инжекторной программы Института Развитие инжекторной программы Института А.А.Иванов 24/01/2015 1 План изложения Импульсные инжекторы Инжекторы для диагностики Инжекторы для стационарных реакторов и нейтронных источников Ионные источники

Подробнее

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических УДК 539.216.2, 621.793.18 Р. Т. Галяутдинов, М. В. Елхин, Н. Ф. Кашапов АНОМАЛЬНЫЙ ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД В ВАКУУМЕ В ПРОЦЕССЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКООТРАЖАЮЩИХ СТОМАТОЛОГИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ Ключевые слова: аномально тлеющий

Подробнее

О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений

О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 12 июня 04;10 О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений В.А. Бурдовицин, А.С. Климов, Е.М. Окс Томский государственный университет

Подробнее

УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ

УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ 1 У С К О Р И Т Е Л И Э Л Е К Т Р О Н О В Д Л Я Р А Д И А Ц И О Н Н О Й Д Е Ф Е К Т О С К О П И И п/п Наименование параметра Обозначение УЭЛР-6-2Д УЭЛР-8-2Д

Подробнее

МЕТОДОЛОГИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ СКАНИРУЮЩЕЙ ЗОНДОВОЙ МИКРОСКОПИИ 2008

МЕТОДОЛОГИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ СКАНИРУЮЩЕЙ ЗОНДОВОЙ МИКРОСКОПИИ 2008 УДК 621.726:621.78 ИССЛЕДОВАНИЕ СТРУКТУРНЫХ ПРЕВРАЩЕНИЙ ПОВЕРХНОСТНОГО СЛОЯ ПОСЛЕ ВЫСОКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОГО ВОЗДЕЙСТВИЯ МЕТОДОМ СКАНИРУЮЩЕГО ЗОНДА КЕЛЬВИНА Н.А. Шипица 1, А.Л. Жарин 1, А.В. Белый 1, Д.И. Сарока

Подробнее

УДК Иващенко С.А., Койда С.Г. ВЛИЯНИЕ РЕЖИМОВ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫХ ПОКРЫТИЙ НА ИЗМЕНЕНИЕ МИКРОТВЁРДОСТИ ПОКРЫТИЯ

УДК Иващенко С.А., Койда С.Г. ВЛИЯНИЕ РЕЖИМОВ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫХ ПОКРЫТИЙ НА ИЗМЕНЕНИЕ МИКРОТВЁРДОСТИ ПОКРЫТИЯ внутренняя энергия системы взаимодействующих частиц не меняется, то перезарядка называется резонансной, что характерно для взаимодействия иона и атома одного вещества [3]. Данный процесс применительно

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ APEL-MR-IN ТОМСК 2013 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ

Подробнее

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы.

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Ю.В.Агабеков, А.М.Сутырин Из кн. Труды постоянно действующего научно-технического семинара. "Электровакуумная техника

Подробнее

НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ

НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ О КОМПАНИИ НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ ОАО «НПО ПМ МКБ» существует с 2000 года и в настоящее время входит в состав интегрированной структуры созданной на базе ОАО «Информационные спутниковые системы» имени

Подробнее

Глухов А.С, Джусь К.А., Сафонов А.Г.

Глухов А.С, Джусь К.А., Сафонов А.Г. РНЦ Курчатовский институт НАНОСТРУКТУРНЫЕ ЭЛЕКТРОКАТАЛИЗАТОРЫ ДЛЯ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИХ СИСТЕМ С ТВЕРДЫМ ПОЛИМЕРНЫМ ЭЛЕКТРОЛИТОМ, СИНТЕЗИРОВАННЫЕ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННО- ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ Глухов А.С, Джусь К.А.,

Подробнее

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Описание 1 Назначение и область применения установки термического отжига в управляемой газовой среде 1.1 Назначение: Установка предназначена

Подробнее

Согл. Назначение и область применения. Описание. й ЦСМ» ляма г. й реестр средств. Внесена в измерений

Согл. Назначение и область применения. Описание. й ЦСМ» ляма г. й реестр средств. Внесена в измерений Согл Заместитель дирек й ЦСМ» Руководитель Г ляма «8» 009 г. Машины для испытания конструкционных материалов УТС 00 Внесена в измерений й реестр средств Регистрационный номер 4',99- Q9 Выпускаются по.

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ APEL-IS-7CELL ТОМСК 2012 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ ИИ...3 4. ПРИНЦИП РАБОТЫ

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ПРОТЯЖЕННЫЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ APEL-IS-L200 ТОМСК 2013 1 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ ИИ...3 3.

Подробнее

Установка электроннолучевого напыления

Установка электроннолучевого напыления ООО «Остек-ЭТК» Молодогвардейская ул., д. 7, стр. 4, Москва, Россия, 121467 Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42, www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru, etc@ostec-group.ru ИНН 7731481052,

Подробнее

Развитие энергосберегающих технологий на высокодисперсных ферритах

Развитие энергосберегающих технологий на высокодисперсных ферритах Развитие энергосберегающих технологий на высокодисперсных ферритах Полищук ВЕ, Полищук ИВ, Демьянчук БА, Макордей ФВ, Шевченко ГН Одесский государственный университет им ИИ Мечникова Операция температурного

Подробнее

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ ПРОМЫШЛЕННОЙ УСТАНОВКОЙ «КО-МКР»

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ ПРОМЫШЛЕННОЙ УСТАНОВКОЙ «КО-МКР» УДК 681.516.75 СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ ПРОМЫШЛЕННОЙ УСТАНОВКОЙ «КО-МКР» О.В. Пащенко, А.М. Соловьев, С.В. Юдаков Томский политехнический университет E-mail: ysv@tpu.ru Описана система управления промышленной

Подробнее

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ УДК 621.923 ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ С.И.Шкурат, кандидат химических наук, доцент Национальный кораблестроительный университет им.адм. Макарова П.Н.Полянский, асистент

Подробнее

КАТАЛОГ. ниитоп ПРЕЦИЗИОННАЯ ДИСКОВАЯ РЕЗКА

КАТАЛОГ. ниитоп ПРЕЦИЗИОННАЯ ДИСКОВАЯ РЕЗКА ниитоп КАТАЛОГ ПРЕЦИЗИОННАЯ ДИСКОВАЯ РЕЗКА ОАО "Нижегородский институт технологии и организации производства" 6039, Россия, Г.Н.Новгород, ул. Нартова, 2 тел: (831)270-12-38 факс: (831)412-39-22 www.niitop.ru

Подробнее

Калибровочный источник ионов. А. Колмогоров, В. И. Давыденко, А. А. Иванов, П. Усов, К. Юшкова A. Smirnov, R. Clary

Калибровочный источник ионов. А. Колмогоров, В. И. Давыденко, А. А. Иванов, П. Усов, К. Юшкова A. Smirnov, R. Clary Калибровочный источник ионов А. Колмогоров, В. И. Давыденко, А. А. Иванов, П. Усов, К. Юшкова A. Smirnov, R. Clary Содержание Прототип источника Технические требования Выбор элементов источника Моделирование

Подробнее

МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ

МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ ПРОМЫШЛЕННЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ Д.Локтев, Е.Ямашкин e.yamashkin@technopolice.ru d.loktev@technopolice.ru МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙЯ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ Состав

Подробнее

Физика. Простые задачи. Задача 1. Задача 2

Физика. Простые задачи. Задача 1. Задача 2 Физика Простые задачи Задача 1 Для элементного анализа пробу наночастиц подготавливают следующим образом: сперва её испаряют, а затем ионизируют электронным пучком. Температура кипения серебра T = 2485

Подробнее

Лекция 11 Минск 2014

Лекция 11 Минск 2014 Лекция 11 Минск 2014 1 Рисунок 1 Экологическая стоимость различных видов энергии 2 ПРИРОДА И СПЕКТРАЛЬНЫЙ СОСТАВ СОЛНЕЧНОГО СВЕТА Рис.2.0 Интенсивность падающего на Землю солнечного излучения (Н 1 ) в

Подробнее

Современные плазменные технологии

Современные плазменные технологии Современные плазменные технологии Андрей Владимирович Козырев, д.ф.-м.н., профессор, заведующий кафедрой физики плазмы Томского государственного университета, заведующий лабораторией Института сильноточной

Подробнее

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ»

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ВВЕДЕНИЕ «ОБЩЕИНЖЕНЕРНАЯ ЭРУДИЦИЯ» Первичные определения и понятия о тонких пленках, вакуумных методах

Подробнее

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O Семейство вакуумных установок BRV 700-O для нанесения многослойных функциональных покрытий на оптические элементы (базовая модель, максимальная комплектация). Вакуумная установка типа BRV 700-O является

Подробнее

Климатические камеры. Краткий обзор. Холод. Тепло. Влажность. Дождь. Соляной туман CT14081

Климатические камеры. Краткий обзор. Холод. Тепло. Влажность. Дождь. Соляной туман CT14081 Климатические камеры Холод Краткий обзор Тепло Влажность Дождь Соляной туман CT14081 Камеры холода тепла и влажности Классификация Тип камеры Температура Влажность Низкая температура От -40 до +180 С КХТ

Подробнее

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ Тип воды Наименование показателей Единица измерения Вода из поверхностного источника 1 Значение УДВ-5/1-10-50 Вода из подземного источника 2 Вода, прошедшая глубокую

Подробнее

ООО ЛВТ. Паспорт. Источник ионов ЛЦМК ПС. Ионный источник ЛЦМК Паспорт. Перв. примен. Справ.

ООО ЛВТ. Паспорт. Источник ионов ЛЦМК ПС. Ионный источник ЛЦМК Паспорт. Перв. примен. Справ. Взам. дубл. Справ. Перв. примен. Разраб. Пров. Н. контр. Утв. Источник ионов ЛЦМК.218.00.00.00.000 Паспорт Ионный источник Паспорт Лит. ов 1 20 ООО ЛВТ Содержание 1.Введение...3 2.Назначение...4 3.Технические

Подробнее

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической,

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической, Аннотация проекта (ПНИЭР), выполняемого в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 2020 годы» Номер Соглашения о предоставлении

Подробнее

Исследовательский ядерный реактор ИВВ-2М. Краткое описание и основные характеристики

Исследовательский ядерный реактор ИВВ-2М. Краткое описание и основные характеристики Исследовательский ядерный реактор ИВВ-2М. Краткое описание и основные характеристики Исследовательский ядерный реактор ИВВ-2М является легководным реактором бассейнового типа. Его номинальная тепловая

Подробнее

Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком

Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком 26 июня 06;10;12 Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком Д.М. Демидов, Р.В. Леус, В.П. Чалый Центр перспективных технологий и разработок, С.-Петербург Поступило в Редакцию

Подробнее

г. Таганрог, Ростовская область,

г. Таганрог, Ростовская область, г. Таганрог, Ростовская область, ОАО «Таганрогский Завод «Прибой» г.таганрог, ул.б.бульварная, 13 Тел. (8634)31-29-04,39-00-16 Факс (8634) 32-25-14 Тел.моб. 8 908-175-80-47 Тел.моб. 8 928-922-69-91 E-mail:

Подробнее

Предложения технологической платформы

Предложения технологической платформы Предложения технологической платформы «Национальная информационная спутниковая система» для реализации в рамках приоритетного направления деятельности Российского научного фонда «Проведение фундаментальных

Подробнее

УМЕНЬШЕНИЕ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОДЛОЖЕК AlN ИОННОЙ ОБРАБОТКОЙ

УМЕНЬШЕНИЕ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОДЛОЖЕК AlN ИОННОЙ ОБРАБОТКОЙ УДК 621.389 УМЕНЬШЕНИЕ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОДЛОЖЕК AlN ИОННОЙ ОБРАБОТКОЙ Алина Александровна Доброносова (1), Денис Дмитриевич Васильев (2) Студент 3 курса (1), студент 5 курса, (2), кафедра «Электронные технологии

Подробнее

ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА КАРБИДОКРЕМНИЕВЫХ ВОЛОКОН

ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА КАРБИДОКРЕМНИЕВЫХ ВОЛОКОН ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА КАРБИДОКРЕМНИЕВЫХ ВОЛОКОН 1. Назначение технологии Технология предназначена для производства карбидокремниевых волокон (КВ) в т.ч. как альтернативы углеродным волокнам. 2. Область

Подробнее

Ваш комфорт Наша забота

Ваш комфорт Наша забота Ваш комфорт Наша забота Почему стоит выбрать электрический электродный отопительный котел Актуально и экономично альтернатива газовому отоплению; модельный ряд от 2 до 700 квт; низкие капитальные затраты;

Подробнее

Виды электронной эмиссии

Виды электронной эмиссии Виды электронной эмиссии Физические процессы, протекающие в вакуумных электронных приборах и устройствах: эмиссия электронов из накаливаемых, холодных и плазменных катодов; формирование (фокусировка) и

Подробнее

ВАКУУМНАЯ И ПЛАЗМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА

ВАКУУМНАЯ И ПЛАЗМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА Федеральное агентство по образованию ТОМСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ СИСТЕМ УПРАВЛЕНИЯ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ (ТУСУР) Л.Р. Битнер ВАКУУМНАЯ И ПЛАЗМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА Учебно-методическое пособие для студентов

Подробнее

Разработка антиэрозионных покрытий для силовых элементов космических аппаратов

Разработка антиэрозионных покрытий для силовых элементов космических аппаратов Электронный журнал «Труды МАИ». Выпуск 74 www.mai.ru/science/trudy/ УДК 629.78.002.3 Разработка антиэрозионных покрытий для силовых элементов космических аппаратов Алякрецкий Р.В.*, Раводина Д.В.**, Трушкина

Подробнее

ЛУЧЕВАЯ ПРОЧНОСТЬ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ ДЛЯ БЛИЖНЕГО ИК ДИАПАЗОНА

ЛУЧЕВАЯ ПРОЧНОСТЬ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ ДЛЯ БЛИЖНЕГО ИК ДИАПАЗОНА ЛУЧЕВАЯ ПРОЧНОСТЬ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ ДЛЯ БЛИЖНЕГО ИК ДИАПАЗОНА Г.В. Макаричев, Э.С. Путилин НИУ ИТМО, ОАО ЛОМО, e-mail g_retired@bk.ru. e-mail eputilin@yandex.ru В докладе рассмотрена связь между ошибками,

Подробнее

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Томский государственный университет На правах рукописи Борисов Дмитрий Петрович Генерация

Подробнее

ALD Vacuum Technologies High Tech is our Business. Электронно-лучевой переплав (ЭЛП) Технологии и установки

ALD Vacuum Technologies High Tech is our Business. Электронно-лучевой переплав (ЭЛП) Технологии и установки ALD Vacuum Technologies High Tech is our Business Электронно-лучевой (ЭЛП) Технологии и установки Металлургия процесса Большая установка, тип EBCHR, для плавки титана Отличительными признаками электронно-лучевого

Подробнее

INFRAMET MAB. Абсолютно черное тело для тестирования ТГц камер и камер работающих в мм микроволновом диапазоне.

INFRAMET MAB. Абсолютно черное тело для тестирования ТГц камер и камер работающих в мм микроволновом диапазоне. INFRAMET MAB Абсолютно черное тело для тестирования ТГц камер и камер работающих в мм микроволновом диапазоне. В большинстве своем поставляемые на международный рынок абсолютно черные тела (в том числе

Подробнее

Вестник науки Сибири (1)

Вестник науки Сибири (1) Рябчиков Александр Ильич, д-р физ.-мат. наук, профессор, зав. лаб. 22 Физикотехнического E-mail: ralex@tpu.ru физика плазмы, физика твердого тела, физика пучков заряженных части и укорительная техника.

Подробнее

УДК ИЗЛУЧАТЕЛЬ И ПРИЕМНИК УЛЬТРАЗВУКА ДЛЯ БЕСКОНТАКТНОГО КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА ТОНКОЛИ- СТОВЫХ МЕТАЛЛОИЗДЕЛИЙ

УДК ИЗЛУЧАТЕЛЬ И ПРИЕМНИК УЛЬТРАЗВУКА ДЛЯ БЕСКОНТАКТНОГО КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА ТОНКОЛИ- СТОВЫХ МЕТАЛЛОИЗДЕЛИЙ УДК 53-8 + 620.179.16 ИЗЛУЧАТЕЛЬ И ПРИЕМНИК УЛЬТРАЗВУКА ДЛЯ БЕСКОНТАКТНОГО КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА ТОНКОЛИ- СТОВЫХ МЕТАЛЛОИЗДЕЛИЙ С.Ю. Гуревич, Е.В. Голубев, Ю.В. Петров Проведены исследования по выявлению зависимости

Подробнее

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Л9 Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Удивительный прогресс в микро- и оптоэлектронике, преобразовавший информационный мир за короткий период непосредственно

Подробнее

Автоматизация и управление вакуумным оборудованием

Автоматизация и управление вакуумным оборудованием Кафедра ФВТМ ИФВТ ТПУ Автоматизация и управление вакуумным оборудованием Модуль 4 Разработчик: Гончаренко И.М., к.т.н., доцент кафедры ФВТМ ВЫБОР И СВОЙСТВА ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ НА ИНСТРУМЕНТАЛЬНЫЕ ТВЕРДЫЕ

Подробнее

Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения)

Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения) Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения) А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, А.Н. Евсюков, И.М.

Подробнее

Новые виды стекол, применяемых в строительстве Инж. О.А. Емельянова, к.т.н. А.Г. Чесноков, д.т.н., профессор В.Е. Маневич, (АО "ГИС", Москва)

Новые виды стекол, применяемых в строительстве Инж. О.А. Емельянова, к.т.н. А.Г. Чесноков, д.т.н., профессор В.Е. Маневич, (АО ГИС, Москва) Новые виды стекол, применяемых в строительстве Инж. О.А. Емельянова, к.т.н. А.Г. Чесноков, д.т.н., профессор В.Е. Маневич, (АО "ГИС", Москва) Традиционно стекло в строительстве использовалось только, как

Подробнее

Установки для измерения длины ЭлМетро ЛИЗА

Установки для измерения длины ЭлМетро ЛИЗА Приложение к свидетельству 64461 Лист 1 об утверждения типа средств измерения ОПИСАНИЕ ТИПА СРЕДСТВА ИЗМЕРЕНИЙ Установки для измерения длины ЭлМетро ЛИЗА Назначение средства измерений Установки для измерения

Подробнее

Теплосчетчики «Теплоучет-1»

Теплосчетчики «Теплоучет-1» Приложение к свидетельству 59690 Лист 1 об утверждении типа средств измерений Теплосчетчики «Теплоучет-1» ОПИСАНИЕ ТИПА СРЕДСТВА ИЗМЕРЕНИЙ Назначение средства измерений Теплосчетчики «Теплоучет-1» (далее

Подробнее

4. Информация о научных проектах Федеральной космической

4. Информация о научных проектах Федеральной космической Физический институт им. П.Н.Лебедева Российской академии наук 4. Информация о научных проектах Федеральной космической программы России, находящихся в стадии разработки: В 2014 2015 годах Лабораторией

Подробнее

Требования к уровню освоения учебного курса

Требования к уровню освоения учебного курса Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Московский физико-технический институт (государственный университет)» Ректор МФТИ УТВЕРЖДАЮ Н.Н. Кудрявцев Программа краткосрочного

Подробнее

Рис.1. Изображение автоэмиссионной матрицы на подложке из глазурированнной керамики ВК-94

Рис.1. Изображение автоэмиссионной матрицы на подложке из глазурированнной керамики ВК-94 В 2008 году фирмой L-3 Communications-ED была разработана ЛБВ С-диапазона с применением автоэмиссионного катода. При скважности 100 был достигнут ток 120 ма, выходная мощность 100 Вт на частоте 5,0 ГГц.

Подробнее

4.4. Исходя из того, что энергия ионизации атома водорода Е = 13,6 эв, определить первый потенциал возбуждения ϕ 1 этого атома.

4.4. Исходя из того, что энергия ионизации атома водорода Е = 13,6 эв, определить первый потенциал возбуждения ϕ 1 этого атома. КВАНТОВАЯ ФИЗИКА 1.1. Вычислить лучистый поток, испускаемый кратером дуги с простыми углями, имеющим температуру 4200 К. Диаметр кратера 7 мм. Излучение угольной дуги составляет приблизительно 80 % излучения

Подробнее

ВЕНТС ВКД Х ХХХХ ХХХ ХХ/ХХХХ-X

ВЕНТС ВКД Х ХХХХ ХХХ ХХ/ХХХХ-X Серия ВКДВ Серия ВКДГ Двигатель Вентиляторы оснащены трехфазными электродвигателями, рассчитанными на напряжение 400 В. Двигатель расположен в теплоизолированном отсеке и вынесен из потока перемещаемого

Подробнее

оао нтц завод ЛЕНИНЕЦ

оао нтц завод ЛЕНИНЕЦ ТРЕХКООРДИНАТНЫИ МАЛОГАБАРИТНЫЙ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННЫЙ ОБРАБАТЫВАЮЩИЙ КОМПЛЕКС ТРЕХКООРДИНАТНЫИ ФРЕЗЕРНЫЙ СТАНОК С ЧПУ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ЛЕГКООБРАБАТЫВАЕМЫХ МАТЕРИАЛОВ 0809994 оао нтц завод ЛЕНИНЕЦ Снсэипер-1с2

Подробнее

02;12. PACS: Vp

02;12.   PACS: Vp 12 января 02;12 Влияние защитного слоя на длительность горения и излучение кварцевых газоразрядных ламп низкого давления А.И. Васильев, Л.М. Василяк, С.В. Костюченко, Н.Н. Кудрявцев, М.Е. Кузьменко, В.Я.

Подробнее

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г.

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г. Материалы Международной научно-технической конференции, 14 17 ноября 2011 г. МОСКВА INTERMATIC 2 0 1 1, часть 2 МИРЭА ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ НАНОРАЗМЕОНЫХ ПЛЕНОК НИТРИДА

Подробнее

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИХ РАЗРЯДОВ НА ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛИ И ЗАЩИТНЫЕ СТЕКЛА ПРИ ОБЛУЧЕНИИ ГОРЯЧЕЙ МАГНИТОСФЕРНОЙ ПЛАЗМОЙ Н.Е. Маслякова 1, Л.С. Гаценко 1, Л.С. Новиков

Подробнее

Радиационные и плазменные технологии обработки материалов

Радиационные и плазменные технологии обработки материалов Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий Радиационные и плазменные технологии обработки материалов Кривобоков В.П. 2010 Кривобоков Валерий Павлович, д.ф.-м.н., профессор, проректордиректор

Подробнее

Руководство пользователя

Руководство пользователя ООО "Прикладная Электроника" Руководство пользователя для протяженной магнетронной распылительной системы с вращающимся цилиндрическим катодом Пожалуйста, внимательно ознакомьтесь с настоящим руководством

Подробнее

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме.

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Технология и оборудование. Часть II * Для получения толстых диэлектрических покрытий с соблюдением рассмотренных в части I условий и принципов в ООО

Подробнее

Экспериментальное изучение электростатических разрядов при облучении защитного стекла солнечных батарей электронами

Экспериментальное изучение электростатических разрядов при облучении защитного стекла солнечных батарей электронами УДК 537.529 Экспериментальное изучение электростатических разрядов при облучении защитного стекла солнечных батарей электронами Суздалевич В.А., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана,

Подробнее

Промышленная установка МАП-1 для нанесения защитных покрытий различного назначения

Промышленная установка МАП-1 для нанесения защитных покрытий различного назначения ВИАМ/1995-201786 Промышленная установка МАП-1 для нанесения защитных покрытий различного назначения С.А. Мубояджян кандидат технических наук С.А. Будиновский кандидат технических наук Февраль 1995 Всероссийский

Подробнее

Секция: физика Университетский Лицей 1511 предуниверситария НИЯУ МИФИ 115522, г. Москва Пролетарский проспект д. 6, корп. 3 тел: (495) 788-56-99, e-mail: sch_1511@gor.educom.ru Осаждение пористых кремниевых

Подробнее

Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7

Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7 Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7 Глава 1 Причины нестабильности реактивного распыления... 8 1.1. Два стабильных состояния мишени в процессе реактивного

Подробнее

VKVR. - монтаж в любом положении. Ток max, A. Cкор., мин -1 0,07 0, ,1 0,5 0,15 0,7 4 0,15 0,7 5 0,2 0,9 0,25 1,1

VKVR. - монтаж в любом положении. Ток max, A. Cкор., мин -1 0,07 0, ,1 0,5 0,15 0,7 4 0,15 0,7 5 0,2 0,9 0,25 1,1 ВЕНТИЛЯТОР ВЕНТИЛЯТОР Круглые канальные вентиляторы наиболее эффективное и удобное оборудование, применяемое при расходах воздуха до м/час. Характеристики: - однофазные асинхронные двигатели с внешним

Подробнее

Рис. 2. Система Quanta 200 3D.

Рис. 2. Система Quanta 200 3D. Quanta 200 3D Dual Beam TM (FEI Company). Система со сфокусированными электронным и ионным зондами для автоматизированных исследований в промышленных и лабораторных условиях. Систему Quanta 200 3D с полным

Подробнее

Пл-на. Рис.1 ВЧ-диодная система для ионно-плазменного травления

Пл-на. Рис.1 ВЧ-диодная система для ионно-плазменного травления 50 Лекция 15 МЕТОДЫ СУХОГО ТРАВЛЕНИЯ 1. Ионное травление представляет собой процесс физического распыления поверхности, за счёт использования кинетической энергии ионов инертных газов (Ar). Существует

Подробнее

Решение задач ЕГЭ части С: квантовая физика

Решение задач ЕГЭ части С: квантовая физика С1.1. Маленький незаряженный металлический шарик, подвешенный на непроводящей нити в вакууме около большой вертикальной заземленной металлической плоскости (см. рисунок), начинают облучать узким пучком

Подробнее

ФОТОЭФФЕКТ. ЭФФЕКТ КОМПТОНА. ВОЛНОВЫЕ СВОЙСТВА ЧАСТИЦ. 1. Определить энергию ε, импульс р и массу m фотона, длина волны которого λ = 500 нм.

ФОТОЭФФЕКТ. ЭФФЕКТ КОМПТОНА. ВОЛНОВЫЕ СВОЙСТВА ЧАСТИЦ. 1. Определить энергию ε, импульс р и массу m фотона, длина волны которого λ = 500 нм. ФОТОЭФФЕКТ. ЭФФЕКТ КОМПТОНА. ВОЛНОВЫЕ СВОЙСТВА ЧАСТИЦ 1. Определить энергию ε, импульс р и массу m фотона, длина волны которого λ = 500 нм. 2. Какую длину волны λ должен иметь фотон, чтобы его масса была

Подробнее

Курсовой проект. по дисциплине. «Плазменные ускорители». Тема: расчет и проектирование СПД.

Курсовой проект. по дисциплине. «Плазменные ускорители». Тема: расчет и проектирование СПД. Московский авиационный институт (государственный технический университет) МАИ Кафедра «Электроракетные двигатели, энергофизические и энергетические установки» (Кафедра 208) Курсовой проект по дисциплине

Подробнее

04;12. PACS: Jj

04;12.   PACS: Jj 04;12 Распыление мишени магнетронного диода в присутствии внешнего ионного пучка В.В. Жуков, В.П. Кривобоков, С.Н. Янин Федеральное государственное научное учреждение Научно-исследовательский институт

Подробнее

Вентиляторы дымоудаления [ВО ДУ]

Вентиляторы дымоудаления [ВО ДУ] Вентиляторы дымоудаления [ВО 13-284 ДУ] Вентилятор осевой ВО 13 284 ДУ Общие сведения Низкого давления Количество лопаток: ВО-13-284-5 10ДУ 8, ВО-13-284-12,5ДУ - 6 Напряжение 380 В Назначение Вентиляторы

Подробнее

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ Наименование показателей Единица измерения Тип воды - Вода из поверхностного источника 1 УДВ-1/1 тип 3 Значение Вода из подземного источника 2 Вода, прошедшая глубокую

Подробнее

НАША ПРОДУКЦИЯ. Постоянное воплощение в жизнь задач наших клиентов

НАША ПРОДУКЦИЯ. Постоянное воплощение в жизнь задач наших клиентов НАША ПРОДУКЦИЯ Постоянное воплощение в жизнь задач наших клиентов НАША ПРОДУКЦИЯ ТИП HP W Одноосный пресс горячей штамповки с нагревом сопротивлением 22 ТИП HP D Высокотемпературная установка для спекания

Подробнее

образования «Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана», профессор кафедры высшей математики.

образования «Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана», профессор кафедры высшей математики. ЗАКЛЮЧЕНИЕ диссертационного совета Д 212.141.17 на базе федерального государственного бюджетного образовательного учреждения высшего профессионального образования «Московский государственный технический

Подробнее

2. Сканирующий профилометр на основе хроматических конфокальных датчиков (СП)

2. Сканирующий профилометр на основе хроматических конфокальных датчиков (СП) для производства шкал, сеток, фотошаблонов и синтезированных голограмм на основе лазерной трехмерной микро и нанообработки Полещук Александр Григорьевич, д.т.н., профессор 1, В.П. Корольков 1, В.П. Бессмельцев

Подробнее

УСТАНОВКИ ИНДУКЦИОННЫЕ ПЛАВИЛЬНЫЕ

УСТАНОВКИ ИНДУКЦИОННЫЕ ПЛАВИЛЬНЫЕ УСТАНОВКИ ИНДУКЦИОННЫЕ ПЛАВИЛЬНЫЕ ИНДУКЦИОННЫЕ ПЛАВИЛЬНЫЕ УСТАНОВКИ Индукционные плавильные установки УИП емкостью от 0, кг до тонн предназначены для индукционной плавки черных, цветных и драгоценных металлов

Подробнее

Назначение. Объекты контроля (ОК) Производительность

Назначение. Объекты контроля (ОК) Производительность Назначение Установка УМК-ЖЛ.1 предназначена для проведения операции влажного магнитолюминесцентного контроля крупных литых деталей сложной формы, преимущественно деталей тележек грузовых железнодорожных

Подробнее

ВЕНТИЛЯТОРЫ РЕВЕРСИВНЫЕ ДЛЯ СУШИЛЬНЫХ КАМЕР

ВЕНТИЛЯТОРЫ РЕВЕРСИВНЫЕ ДЛЯ СУШИЛЬНЫХ КАМЕР Осевой реверсивный вентилятор для сушильных камер Осевой реверсивный вентилятор FTDA-REV-D изготавливается в трех видах корпуса (см. рис. 1). Корпус реверсивного вентилятора изготавливается из черного

Подробнее

Новое поколение вакуумных напылительных установок

Новое поколение вакуумных напылительных установок Новое поколение вакуумных напылительных установок А.А. Бикташев, О.В. Желонкин, В.А. Глинкин, А.П. Ляпин ЗАО "ФЕРРИ ВАТТ", г. Казань, Россия Представлены последние разработки установок ЗАО "Ферри Ватт",

Подробнее

Ядерная физика Спектрометрия быстрых нейтронов Физика пылевой плазмы Ядерный микроанализ

Ядерная физика Спектрометрия быстрых нейтронов Физика пылевой плазмы Ядерный микроанализ Развитие ускорительного комплекса ГНЦ РФ-ФЭИФЭИ Романов В.А.,Бажал С.В.,Глотов А.И.,Резвых К.А. КГ-2,5 УСКОРИТЕЛЬНЫЙ КОМПЛЕКС ГНЦ РФ-ФЭИФЭИ ЭГП-15 ЭГ-1 Ядерная физика Радиационное материаловедение Физика

Подробнее