Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники

Save this PDF as:
 WORD  PNG  TXT  JPG

Размер: px
Начинать показ со страницы:

Download "Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники"

Транскрипт

1 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" ОАО НИИТМ Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники Сентябрь 2010

2 Россия,124460, Москва, Зеленоград, Панфиловский проспект 10 1

3 Виды создаваемого оборудования (тематическая структура НИИТМ) Вакуумное оборудование Физико-термическое оборудование Нанесение плёнок Диффузия Плазмохимическое травление Осаждение из газовой фазы Окисление Эпитаксия Термический отжиг 2

4 Вакуумно-плазменное технологическое оборудование vкомплект вакуумного специального технологического оборудования. vкомплект малогабаритного технологического оборудования настольного типа ( МВУ ТМ ). vвакуумные установки с комбинированными плазменными системами. vвакуумное промышленное технологическое оборудование.

5 1. Комплект вакуумного специального технологического оборудования. Назначение: Разработка, исследование и реализация технологических процессов в микро-, нано-, радиоэлектронике. Общие особенности установок: Индивидуальная обработка подложек до Æ 200 мм (150х150мм). Безмасляная система откачки на базе турбомолекулярного и форвакуумных насосов. Микропроцессорная система управления. Возможность встраивания в чистую комнату. Возможность объединения в кластерный комплекс из 2-х или 3-х установок (стыковка установок через шлюзовую камеру загрузки-выгрузки подложки).

6 Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических слоёв "МАГНА ТМ-200" Схема установки Нанесение многослойных или многокомпонентных металлических и диэлектрических слоёв, Скорость нанесения: - металлических слоёв до 0,5 мкм/мин; - диэлектрических слоёв до 0,2 мкм/мин. Неравномерность слоёв по толщине ±3 %. ВЧ-очистку подложек перед нанесением слоёв. 1-1a

7 Мультикатодные магнетроны Планарный магнетрон 1-1b

8 Вакуумная установка плазмохимического травления наноструктур "ПЛАЗМА ТМ-200" Схема установки Система гелиевого охлаждения подложек на рабочем столе с источником напряжения смещения на подложку; Неравномерность травления ± 2 %. Скорость анизотропного травления: - кремния (1-3) мкм/мин; - двуокиси кремния, кварца,стекла пирекс (0,5 1) мкм/мин. Аспектное соотношение - 1/10 1/ a

9 1-2b

10 Вакуумная установка плазмохимического осаждения плёнок из газовой фазы "АЛМАЗ ТМ-200" Схема установки Осаждение проводящих и диэлектрических материалов (SiO 2, Si 3 N 4, Si, SiC) в вакуумном реакторе из газовой фазы с плазменной активацией в ВЧ, СВЧ плазме. Рабочий стол с нагревателем до 1000ºС и источником напряжения смещения на подложку; Многоканальная газовая система; Безмасляная система откачки на базе химически стойких турбомолекулярных (или криогенных) и форвакуумных насосов. 1-3a

11 1-3b

12 Габаритный чертёж установки "ПЛАЗМА ТМ " 1a

13 МИНИ-КЛАСТЕР ИЗ ДВУХ УСТАНОВОК 1b

14 МИНИ-КЛАСТЕР ИЗ ТРЁХ УСТАНОВОК 1c

15 2. Комплект малогабаритного технологического оборудования настольного типа ( МВУ ТМ ) Назначение: Технологическое обучение, научные исследования, мелкосерийное производство. Особенности: Последовательная обработка подложек: Ø150 мм 2 шт.; Ø100 мм 2 шт.; Ø76 мм 4 шт.; Ø60 мм 8 шт.; размером 60х48 мм 8 шт. Автоматизированное управление от персонального компьютера. Малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки. Автономная система водяного охлаждения. Электропитание от однофазной сети 220 В, 50 Гц. Мощность потребления не более 3 квт. Площадь, занимаемая одной установкой ~1,0 м 2. 2

16 Малогабаритная вакуумная установка магнетронного напыления МВУ ТМ-Магна Схема реактора Нанесение плёнок металлов (Al, Ni, Fe, W, др.) и диэлектриков (SiO 2, Si 3 N 4, др.) методом магнетронного распыления. Распыление дисковой мишени в плазме магнетронного разряда. 2-1

17 Малогабаритная вакуумная установка термического испарения МВУ ТМ-ТИС Схема реактора Нанесение металлических плёнок методом термического испарения металлов в высоком вакууме. Нагреваемый подложкодержатель ( С) 2-2

18 Малогабаритная вакуумная установка реактивно-ионного травления МВУ ТМ Плазма РИТ Схема установки Травление тонких диэлектрических (SiO 2, Si 3, N 4 ) и металлических слоев (Мо, Cr и др.), а также полупроводниковых материалов (GaAs, Si и др.) откачка реактора до предельного разряжения не хуже 0,5 Па; измерение ВЧ смещения на электроде (подложкодержателе) в диапазоне от 0 до 1000 В; регулирование и автоматическое поддержание уровня ВЧ мощности в диапазоне Вт. 2-3

19 Малогабаритная вакуумная установка термического отжига МВУ ТМ-Отжиг Схема реактора Термический отжиг и сушка материалов, слоёв, структур. Нагрев подложек до температуры С 2-4

20 Габаритный чертёж установки "МВУ ТМ Плазма-РИТ" 2a

21 Научно-технологическая лаборатория v МВУ ТМ-Магна Нанесение металлов и диэлектриков методом магнетронного распыления. v МВУ ТМ-ТИС Осаждение плёнок металлов методом термического испарения. v МВУ ТМ Плазма-РИТ Прецизионное травление слоёв и материалов методом реактивно-ионной обработки. v МВУ ТМ-Отжиг Термический отжиг и сушка слоёв и материалов. 2b

22 3. Вакуумные установки с комбинированными плазменными системами. 3

23 Вакуумная установка плазмохимического травления с двухразрядной плазменной системой МВУ ТМ Плазма-Геликон Технологические процессы: селективное плазмохимическое травление (геликоновый источник плазмы); прецизионное анизотропное плазмохимическое травление (магнетронный источник плазмы). Схема реактора 3-1

24 Вакуумная установка нанесения покрытий и очистки поверхности с комбинированной плазменной системой МВУ ТМ Плазма-ПДУ Технологические процессы: нанесение металлических, диэлектрических и других покрытий с рабочей температурой до 180 С (плазменно-дуговой ускоритель); очистка обрабатываемой поверхности в процессе нанесения покрытий (геликоновый источник плазмы). Схема реактора 3-2

25 4. Вакуумное промышленное оборудование 4

26 Четырёхпозиционная вакуумная установка с магнетронными распылительными системами Магна ТМ-5 Схема установки 1. Рабочая камера. 2. Крышка рабочей камеры. 3. Фланец высоковакуумного затвора. 4. Крышка шлюза. 5. Карусель. 6. Камеры на карусели. 7. Держатель пластин. 8. Привод карусели. 9. Сильфоны. 10. Привод затвора шлюза. 11. Привод уплотнения камер магнетронов. 12. Приводы вращения держателей пластин. 13. Регулятор подачи рабочего газа. 14. Нагреватель пласти 4-1a

27 4-1b

28 Вакуумная установка непрерывного действия с магнетронными системами распыления Магна ТМ-29 Схема установки 4-2a

29 4-2b

30 Вакуумная установка нанесения тонких плёнок с электронно-лучевой системой испарения Оратория Шлюз. 2. Рабочая камера. 3. Затвор-держатель пластин. 4. Дверь шлюзовой камеры. 5. Планетарный держатель пластин. 6. Приводы вращения держателей пластин. 7. Датчик контроля толщины плёнки. 8. Экран. 9. Заслонка. Схема установки 10. Охлаждаемый четырёхпозиционный тигель. 11. Электронно-лучевой испаритель. 12. Нагреватель пластин. 13. Линия форвакуумной откачки. 14. Затвор крионасоса шлюзовой камеры. 15. Затвор крионасоса рабочей камеры. 16. Линия форвакуумной откачки. 17. Нагреватель. 4-3a

31 4-3b

32 Вакуумная установка напыления плёнок немагнитных и магнитных металлов с магнетронной системой Оратория 22 ( Пламар-100 ) М1¼М4 Магнетрон. 1. Заслонка. 2. Заслонка. 3. Механизм планетарный. 4. Нагреватель резистивный. 5. Рабочая камера. 6. Привод затвора. 7. Пневмопривод движения затвора. Схема установки 8. Пневмопривод поворота затвора. 9. Вибронатекатель. 10. Ионный источник. 11. Камера шлюзовая. 12. Привод вращения карусели. 13. Затвор поворотный. 14. Датчик температуры пластин. 15. Нагреватель ламповый. 16. Крионасос. 4-4a

33 4-4b

34 4-4c

35 Физико-термическое технологическое оборудование vкомплект физико-термического специального технологического оборудования. v Физико-термическое научное и промышленное технологическое оборудование.

36 5. Комплект физико-термического специального технологического оборудования Назначение: Разработка, исследование и реализация технологических процессов в микро-, нано-, радиоэлектронике. Общие особенности установок: Диаметр обрабатываемых пластин до 100 мм. Однореакторная электропечь резистивного нагрева горизонтального типа. Кварцевый реактор с герметизируемой рабочей зоной. Трехсекционный спиральный нагреватель с термопарой в каждой секции. Газовая система (2 7 каналов). Малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки. Микропроцессорная система управления. Возможность встраивания в чистую комнату. 5

37 Установка для процессов диффузии, окисления, отжига пластин и материалов при нормальном давлении Оксид ТМ 1 Схема установки Автоматизированная установка термической обработки пластин и материалов в контролируемой среде рабочих газов при нормальном атмосферном давлении процессы диффузии, окисления, отжига, сушки, разгонки диффузанта, восстановления кристаллических структур. Количество одновременно обрабатываемых пластин до 120. Диапазон рабочих температур С. 5-1

38 Установка термической обработки пластин и материалов в высоком вакууме и газовой среде Отжиг ТМ 2 Схема установки Автоматизированная установка термической обработки пластин и материалов в высоком вакууме и газовой среде процессы отжига, сушки, разгонки диффузанта, восстановления кристаллических структур. Количество одновременно обрабатываемых пластин до 25. Диапазон рабочих температур С. Предельное остаточное давление в реакторе до 10 4 Па. 5-2

39 Установка для процессов осаждения слоёв из газовой среды при пониженном давлении Изотрон ТМ 1 Схема установки Автоматизированная установка для процессов осаждения слоёв из газовой среды при пониженном давлении (форвакууме), в том числе слоев легированной и нелегированной двуокиси кремния, из концентрированных реагентов Количество одновременно обрабатываемых пластин до 25. Диапазон рабочих температур С. Рабочее давление 26,6 133 Па. 5-3

40 Установка плазмохимического осаждения диэлектрических слоёв при пониженном давлении Изоплаз ТМ 1 Схема установки Автоматизированная установка плазмохимического осаждения диэлектрических нелегированных и легированных слоёв оксида кремния (SiO 2 ) и слоёв нитрида кремния (Si 3 N 4 ) при пониженном давлении с плазменной активацией реагентов. Количество одновременно обрабатываемых пластин до 25. Частота и мощность ВЧ генератора 440 кгц; 1 квт. Диапазон рабочих температур С. Рабочее давление 26,6 133 Па. 5-4

41 6. Физико-термическое научное и промышленное технологическое оборудование. 6

42 Малогабаритная электропечь газотермической обработки пластин и материалов Отжиг ТМ 1 Схема установки Газотермическая обработка пластин и материалов, включая нанопорошки, в среде рабочего газа, в том числе водорода, при нормальном (атмосферном) давлении. Управление скоростью разогрева и охлаждения реактора. Свободное программирование параметров термообработки. Микропроцессорная система управления. Возможность встраивания в чистую комнату. 6-1

43 Система автоматической дозаправки жидких реагентов с термостатированием для диффузионных процессов Система подачи ТЭОС 6-2

44 Эпитаксиальная установка индивидуальной обработки подложек диаметром до 200 мм ЕТМ /

45 Установка высокотемпературной обработки материалов в вакууме 6-4a

46 Схема установки 6-4b

47 Нанопорошок монооксида кремния с фракционным составом 1 30 нм Содержание примесей, ppm Al - 1 Fe - 1 Mn - 1 Cr - 0,4 Ni - 1 Ca - 1 Cu - 0,2 Ti - 0,2 V - 0,1 Co - 0,3 P - 0,5 B c

48 Производство НИИТМ Участок сборки, наладки и испытаний технологического оборудования Участок сборки и наладки узлов

49 Продукция НИИТМ

50 IX Международный салон инноваций и инвестиций (Золотая медаль) Москва, ВВЦ, августа 2009 года

51 С П А С И Б О З А В Н И М А Н И Е

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПРОМЫШЛЕННЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ В. Одиноков, Г. Павлов http://www.niitm.ru/ info@niitm.ru СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ НИИ точного машиностроения (НИИТМ) основан

Подробнее

Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения

Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения Открытое Акционерное Общество Схема и характеристика установки (процесс отжига в вакууме, 3-х канальная газовая система) СиСТеМЫ ОХЛаЖДеНИЯ Вентилятор Водяной теплообменник т Воздух Вода Нагреватель irpeb

Подробнее

Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013

Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013 Берлин Е. В., Григорьев В. Ю. Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013 ВТТ 2015 Санкт-Петербург Серия «Ника-2012» Современный аналог колпаковых машин серии УВН-71. Состав: Камера нерж. Ø400х350

Подробнее

Вакуумные методы нанесения покрытий. ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград

Вакуумные методы нанесения покрытий. ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград Вакуумные методы нанесения покрытий ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград Преимущества вакуумных методов Неагрессивная среда Стабильность технологии Низкие эксплуатационные расходы Экологичность

Подробнее

Содержание. Введение... 8

Содержание. Введение... 8 Содержание Введение... 8 ЧАСТЬ 1. НАПЫЛЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК...11 Глава 1. Технологические особенности нанесения резистивных слоев...11 1.1 Резисторы из силицидов тугоплавких металлов...11 1.2. Способы получения

Подробнее

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700 Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий Производство всех типов нанокомпозитных покрытий различного назначения (упрочняющих, защитных, трибологических, многофункциональных и др.) для широкого

Подробнее

Ионно-плазменные технологии и оборудование

Ионно-плазменные технологии и оборудование Ионно-плазменные технологии и оборудование ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ ПО ОБРАБОТКЕ ЛИСТОВОГО СТЕКЛА: СЕРИЯ «ОПАЛ» Предназначены для осаждения низкоэмиссионных, отражающих и тонирующих покрытий на лстовое

Подробнее

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Описание 1 Назначение и область применения установки термического отжига в управляемой газовой среде 1.1 Назначение: Установка предназначена

Подробнее

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике»

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» п/п Лекционные занятия Варианты курсов Прим. Наименование раздела, темы «Оператор» 0лк 0 пр., нед.

Подробнее

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12 Ñîäåðæàíèå Предисловие 11 Введение 12 Глава 1. Пробои на катоде магнетрона 16 1.1. Что такое пробой 16 1.2. Механизм возникновения пробоев на катоде 17 1.3. Причины пробоев на катоде при реактивном магнетронном

Подробнее

JETCLIP. Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности. 200 мм RTР/RTCVD кластерная система

JETCLIP. Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности. 200 мм RTР/RTCVD кластерная система JETCLIP 200 мм RTР/RTCVD кластерная система Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности Модель Jipelec JetClip разработана для RTP процессов в производстве SEMI- MESC пластин диаметром до

Подробнее

RU (11) (51) МПК H01J 37/30 ( ) C23C 14/00 ( )

RU (11) (51) МПК H01J 37/30 ( ) C23C 14/00 ( ) РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (51) МПК H01J 37/30 (2006.01) C23C 14/00 (2006.01) 172 351 (13) U1 R U 1 7 2 3 5 1 U 1 ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ

Подробнее

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом УДК 67.05 Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом Зимин Д.Д., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана, кафедра «Плазменные

Подробнее

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме.

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. д.т.н. Григорьянц А.Г., к.т.н. Мисюров А.И., аспирант Макаров В.В. Проведен анализ вакуумных методов формирования квантоворазмерных наноструктур.

Подробнее

Установка электроннолучевого напыления

Установка электроннолучевого напыления ООО «Остек-ЭТК» Молодогвардейская ул., д. 7, стр. 4, Москва, Россия, 121467 Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42, www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru, etc@ostec-group.ru ИНН 7731481052,

Подробнее

ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ

ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ 2016 2 СФЕРЫ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ ООО «РУ-ВЭМ» Вакуумная техника и технологии Энергосбережение на основе частотно-регулируемых электроприводов - Проектирование - Производство - Обслуживание

Подробнее

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O Семейство вакуумных установок BRV 700-O для нанесения многослойных функциональных покрытий на оптические элементы (базовая модель, максимальная комплектация). Вакуумная установка типа BRV 700-O является

Подробнее

Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования

Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования 1. Цели и задачи исследования Разработка методов получения твердых, износостойких покрытий на основе углерода

Подробнее

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ»

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ВВЕДЕНИЕ «ОБЩЕИНЖЕНЕРНАЯ ЭРУДИЦИЯ» Первичные определения и понятия о тонких пленках, вакуумных методах

Подробнее

Раздел 2. Биполярные структуры

Раздел 2. Биполярные структуры Раздел 2. Биполярные структуры Рис. 2.1. Операции по созданию скрытого слоя. а) исходная пластина Si после очистки, отмывки, сушки; б) пластина с выращенным термическим окислом; в) вскрытие окон; г) диффузия

Подробнее

Получение пленок методом распылительной сушки

Получение пленок методом распылительной сушки Получение пленок методом распылительной сушки Список основных характеристик качества пленки 1. Чистота. В большинстве случаев требуется высокочистая пленка для модификации электрических, магнитных, механических

Подробнее

Вакуумное оборудование планарного цикла. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование»

Вакуумное оборудование планарного цикла. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» Вакуумное оборудование планарного цикла Закрытое акционерное общество «Научное и тенологическое оборудование» О компании Закрытое акционерное общество «Научное и тенологическое оборудование» (ЗАО «НТО»)

Подробнее

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВСЕРОССИЙСКИЙ НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВИАМ предлагает изготовление и поставку оборудования

Подробнее

Кратко о MiaTech. Все наши сотрудники имеют профильное образование и большой опыт работы в области тонкоплёночных технологий и оборудования

Кратко о MiaTech. Все наши сотрудники имеют профильное образование и большой опыт работы в области тонкоплёночных технологий и оборудования Кратко о MiaTech Мы молодая, динамично развивающаяся компания, созданная сотрудниками и выпускниками кафедры «Электронные технологии в машиностроении» МГТУ им. Н.Э. Баумана Все наши сотрудники имеют профильное

Подробнее

ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА

ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА УДК 621.793.06 Студенческая научная весна 2010: Машиностроительные технологии ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА Куликов Игорь Николаевич,

Подробнее

5. БЕЗМАСЛЯНЫЕ ФОРВАКУУМНЫЕ НАСОСЫ

5. БЕЗМАСЛЯНЫЕ ФОРВАКУУМНЫЕ НАСОСЫ 5. БЕЗМАСЛЯНЫЕ ФОРВАКУУМНЫЕ НАСОСЫ СПИРАЛЬНЫЕ НАСОСЫ В этой главе представлены безмасляные спиральные вакуумные насосы от разработчика, производителя и лидера мирового рынка - японской компании Anest Iwata.

Подробнее

Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 "О внесении

Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 О внесении Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 "О внесении дополнений в Единый тарифноквалификационный справочник работ и профессий рабочих, выпуск 20" Министерство труда Российской Федерации в связи

Подробнее

ОЧИСТКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫМИ МЕТОДАМИ

ОЧИСТКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫМИ МЕТОДАМИ Основными достоинствами спирального компрессора являются: надежность; низкий уровень шума, в том числе и во время пуска (начала работы); низкая вибрация; компактность; небольшой вес компрессора; низкое

Подробнее

Требования к уровню освоения учебного курса

Требования к уровню освоения учебного курса Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Московский физико-технический институт (государственный университет)» Ректор МФТИ УТВЕРЖДАЮ Н.Н. Кудрявцев Программа краткосрочного

Подробнее

Установки молекулярно-лучевой эпитаксии. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование»

Установки молекулярно-лучевой эпитаксии. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» Установки молекулярно-лучевой эпитаксии Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» О компании Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» (ЗАО «НТО»)

Подробнее

ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ. 1.Назначение установки

ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ. 1.Назначение установки ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ на поставку высокопроизводительной автоматизированной установки АТВ-100-14 осаждения профилированных поликристаллических алмазных пленок для теплоотводов. 1.Назначение установки Установка

Подробнее

Нанесение покрытий с использованием несбалансированных магнетронов.

Нанесение покрытий с использованием несбалансированных магнетронов. Нанесение покрытий с использованием несбалансированных магнетронов. Схема процесса нанесения покрытий методом магнетронного распыления с использованием несбалансированных магнетронов (НМ) показана на рис.1.

Подробнее

УДК ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ВАКУУМНО-КОМПРЕССИОННАЯ ПЛАВИЛЬНАЯ УСТАНОВКА

УДК ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ВАКУУМНО-КОМПРЕССИОННАЯ ПЛАВИЛЬНАЯ УСТАНОВКА УДК 66.041-982 ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ВАКУУМНО-КОМПРЕССИОННАЯ ПЛАВИЛЬНАЯ УСТАНОВКА В.М. Лопатин, Р.Ш. Насыров Описано устройство установки, которая предназначена для получения образцов особо чистого кварцевого

Подробнее

УСКОРИТЕЛЬНЫЙ КОМПЛЕКС НА ЭНЕРГИИ ИОНОВ ДО 500 КЭВ.

УСКОРИТЕЛЬНЫЙ КОМПЛЕКС НА ЭНЕРГИИ ИОНОВ ДО 500 КЭВ. УСКОРИТЕЛЬНЫЙ КОМПЛЕКС НА ЭНЕРГИИ ИОНОВ ДО 500 КЭВ. Ю.В.Балакшин 1, А.С. Патракеев 1, Д.В.Петров 1, В.С.Черныш 1, А.А. Шемухин 1, П.Н.Черных 1, А.В. Назаров 2 1 Научно-исследовательский институт ядерной

Подробнее

2.4. Вакуумные системы.

2.4. Вакуумные системы. 2.4. Вакуумные системы. Вакуум (vacuum пустота) пространство, свободное от вещества. В технике и прикладной физике под вакуумом понимают среду, содержащую газ при давлениях значительно ниже атмосферного.

Подробнее

УДК ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ КРЕМНИЕВОЙ МИКРООБРАБОТКИ Иванов Сергей Викторович, Карелин Евгений Юрьевич

УДК ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ КРЕМНИЕВОЙ МИКРООБРАБОТКИ Иванов Сергей Викторович, Карелин Евгений Юрьевич УДК 621.39 ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ КРЕМНИЕВОЙ МИКРООБРАБОТКИ Иванов Сергей Викторович, Карелин Евгений Юрьевич Воронежский государственный технический университет, Россия, Воронеж e-mail: muratovav@kipr.vorstu.ru

Подробнее

МОДЕРНИЗИРОВАННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ СВАРКИ, ПАЙКИ И НАПЛАВКИ РАЗНОРОДНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ И В ГАЗОВЫХ СРЕДАХ

МОДЕРНИЗИРОВАННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ СВАРКИ, ПАЙКИ И НАПЛАВКИ РАЗНОРОДНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ И В ГАЗОВЫХ СРЕДАХ УДК 621.791.754.005.571.11 Виноградов В.Г. магистрант кафедры «Машины и автоматизация сварочного производства» 15.04.02 Технологические машины и оборудование Донской государственный технический университет

Подробнее

Сверхвысоковакуумное оборудование

Сверхвысоковакуумное оборудование 0716459 Сверхвысоковакуумное оборудование для научных исследований, опытно-конструкторских работ и пилотного производства Установки молекулярно-пучковой эпитаксии от Задач Технологии ЗАО "Научное и технологическое

Подробнее

Введение. АНО «Аналитика и высокие технологии»

Введение. АНО «Аналитика и высокие технологии» Содержание Введение...2 Технологическое оборудование для нанотехнологий...3 «Наномагна» вакуумная установка магнетронного напыления...3 «Наноалмаз» вакуумная установка плазмохимического осаждения...5 «Наноплазма»

Подробнее

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ»

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ИНЖЕНЕРНО- ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ ИЗОВАК-БГУИР 2013 ИНЖЕНЕРНО- ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ

Подробнее

НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКУЮ ЛЕНТУ С ФУНКЦИЕЙ ПРЕОБРАЗОВАНИЯ СОЛНЕЧНОЙ ЭНЕРГИИ И ДЛЯ ОСВЕЩЕНИЯ DR. JOHANNES STRÜMPFEL, ДРЕЗДЕН, ГЕРМАНИЯ

НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКУЮ ЛЕНТУ С ФУНКЦИЕЙ ПРЕОБРАЗОВАНИЯ СОЛНЕЧНОЙ ЭНЕРГИИ И ДЛЯ ОСВЕЩЕНИЯ DR. JOHANNES STRÜMPFEL, ДРЕЗДЕН, ГЕРМАНИЯ Conrad Kloß НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКУЮ ЛЕНТУ С ФУНКЦИЕЙ ПРЕОБРАЗОВАНИЯ СОЛНЕЧНОЙ ЭНЕРГИИ И ДЛЯ ОСВЕЩЕНИЯ DR. JOHANNES STRÜMPFEL, ДРЕЗДЕН, ГЕРМАНИЯ 01.10.2015 1 Семинар по нанесению покрытий Дубна

Подробнее

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н.

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. УДК 621.793.6:669.35 С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. МАГНЕТРОННЫЙ МЕТОД НАНЕСЕНИЯ СЕРЕБРЯНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ

Подробнее

и прогноз выполнения бюджета 2015 г.

и прогноз выполнения бюджета 2015 г. Итоги Государственный деятельности научный АО «НПО «ЦНИИТМАШ» центр Российской за 1 полугодие Федерации 2015 г. АО НПО «ЦНИИТМАШ» и прогноз выполнения бюджета 2015 г. «ТЕРМИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ» ГЕНЕРАЛЬНЫЙ

Подробнее

Требования к уровню освоения учебного курса

Требования к уровню освоения учебного курса Программа краткосрочного повышения квалификации преподавателей и научных работников высшей школы по направлению «Наноэлектроника, компонентная база и устройства. Физические принципы. Применяемые технологии

Подробнее

УЧРЕЖДЕНИЕ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ АКАДЕМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ НАУЧНО-ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ РАН

УЧРЕЖДЕНИЕ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ АКАДЕМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ НАУЧНО-ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ РАН УЧРЕЖДЕНИЕ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ АКАДЕМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ НАУЧНО-ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ РАН Эпитаксиальный синтез базовых полупроводниковых материалов Методические

Подробнее

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г.

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г. Материалы Международной научно-технической конференции, 14 17 ноября 2011 г. МОСКВА INTERMATIC 2 0 1 1, часть 2 МИРЭА ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ НАНОРАЗМЕОНЫХ ПЛЕНОК НИТРИДА

Подробнее

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев ООО «Ионные источники и Технологии», Московская область, Россия. Нанесение оптических покрытий с ионным ассистированием

Подробнее

Применение несплавного омического контакта Cr/Au в технологии изготовления планарного арсенидгаллиевого p i n -диода балочного типа Введение.

Применение несплавного омического контакта Cr/Au в технологии изготовления планарного арсенидгаллиевого p i n -диода балочного типа Введение. 26 июля 06.1;06.2;12 Применение несплавного омического контакта Cr/Au в технологии изготовления планарного арсенидгаллиевого p i n-диода балочного типа С.Е. Александров, В.В. Волков, В.П. Иванова, Ю.С.

Подробнее

Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение (CVD)

Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение (CVD) Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение () Формирование кристаллов микросхем (чипов) на подложке требует осуществления сложной последовательности высокоточных процессов. Многие из этих операций

Подробнее

Лекция 11 Минск 2014

Лекция 11 Минск 2014 Лекция 11 Минск 2014 1 Рисунок 1 Экологическая стоимость различных видов энергии 2 ПРИРОДА И СПЕКТРАЛЬНЫЙ СОСТАВ СОЛНЕЧНОГО СВЕТА Рис.2.0 Интенсивность падающего на Землю солнечного излучения (Н 1 ) в

Подробнее

ITAM SB RAS ITAM SB RAS ITAM SB RAS. Плазменное напыление и плазменная наплавка порошковых покрытий

ITAM SB RAS ITAM SB RAS ITAM SB RAS. Плазменное напыление и плазменная наплавка порошковых покрытий Плазменное напыление и плазменная наплавка порошковых покрытий Контактное лицо: Кузьмин Виктор Иванович, e mail: VI_Kuzmin57@itam.nsc.ru В лаборатории разработаны и прошли промышленные испытания самые

Подробнее

Электрофизические свойства пленок пентаоксида тантала, модифицированных углеродом. 1 Введение

Электрофизические свойства пленок пентаоксида тантала, модифицированных углеродом. 1 Введение Электрофизические свойства пленок пентаоксида тантала, модифицированных углеродом И.О.Берков (студент кафедры ФЭ), В.С. Смирнов (студент кафедры ФЭ) ТУСУР. Эл.почта: elias1@inbox.ru, Научный руководитель:

Подробнее

Учебное издание Серия: «Нанотехнологии»

Учебное издание Серия: «Нанотехнологии» УДК 621.3 ББК 32.844.1я73 B24 Серия основана в 2006 году. Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий : B24 учебное пособие для вузов : в 2 т. / под общ. ред. Ю. Н. Коркишко. М. : БИНОМ. Лаборатория

Подробнее

Система добровольной сертификации Евразийское Сварочное Сертификационное Сообщество

Система добровольной сертификации Евразийское Сварочное Сертификационное Сообщество Система добровольной сертификации Евразийское Сварочное Сертификационное Сообщество Перечень сварочного оборудования, подлежащего добровольной сертификации в Системе п\п Наименование сварочного оборудования

Подробнее

С 2002 года Открытое Акционерное Общество Миасский машиностроительный завод серийно производит особо чистое, синтетическое, оптическое кварцевое стекл

С 2002 года Открытое Акционерное Общество Миасский машиностроительный завод серийно производит особо чистое, синтетическое, оптическое кварцевое стекл Кристобалит новый материал для волоконной оптики 2011 год ОАО ММЗ В.Н. Кехтер, А.Г. Черноскутов E-mail: alexi_13@rambler.ru С 2002 года Открытое Акционерное Общество Миасский машиностроительный завод серийно

Подробнее

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической,

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической, Аннотация проекта (ПНИЭР), выполняемого в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 2020 годы» Номер Соглашения о предоставлении

Подробнее

Оборудование лаборатории

Оборудование лаборатории Оборудование лаборатории Прибор для измерения износа и толщины покрытия тестер CAW-S-AE-000... 2 Установка импульсная электронно-пучковая «РИТМ-СП»... 3 Тесламетр ПИЭ.МГ Р-2... 4 Комплект УЗ мойки Powersonic...

Подробнее

Руководство пользователя

Руководство пользователя ООО "Прикладная Электроника" Руководство пользователя для протяженной магнетронной распылительной системы с вращающимся цилиндрическим катодом Пожалуйста, внимательно ознакомьтесь с настоящим руководством

Подробнее

ОСНОВНЫЕ МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ

ОСНОВНЫЕ МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ Рисунок 3 Зависимость удельного расхода электроэнергии турбокомпрессора К500-61-5 от температуры воздуха после промежуточных воздухоохладителей Таким образом, повышение температуры воздуха после промежуточных

Подробнее

Фланцевые уплотнения для сверхвысоковакуумных систем, используемых в диапазоне температур 1,5 600 К

Фланцевые уплотнения для сверхвысоковакуумных систем, используемых в диапазоне температур 1,5 600 К Фланцевые уплотнения для сверхвысоковакуумных систем, используемых в диапазоне температур 1,5 600 К М.П. Ларин «Инновационно-производственная лаборатория вакуумных и криогенных систем» СПбГПУ, 195251,

Подробнее

АНО «Аналитика и высокие технологии»

АНО «Аналитика и высокие технологии» Содержание Введение... 2 Технологическое оборудование для нанотехнологий...3 «Наномагна» ная установка магнетронного напыления...3 «Наноалмаз» ная установка плазмохимического осаждения...5 «Наноплазма»

Подробнее

Исследование образования дефектов и рекристаллизации в пленках кремния на сапфире при ионном облучении

Исследование образования дефектов и рекристаллизации в пленках кремния на сапфире при ионном облучении Доклад по материалам диссертации, представленной на соискание степени кандидата физико-математических наук Исследование образования дефектов и рекристаллизации в пленках кремния на сапфире при ионном облучении

Подробнее

Модуль 2 Процессы получения полупроводниковых пленок

Модуль 2 Процессы получения полупроводниковых пленок Модуль 2 Процессы получения полупроводниковых пленок 2.1. Химическая, электрохимическая и ионно-плазменная обработка. Задачи, решаемые с применением химической и электрохимической обработок, можно разбить

Подробнее

Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения

Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения Денисов А.А. Руководитель: Шахнов В.А., д.т.н., проф. кафедры ИУ4 МГТУ им. Н.Э.Баумана Цель работы Цель работы: Разработка

Подробнее

Здесь я вкратце опишу процесс, используемый для роста (синтеза) графена методом CVD.

Здесь я вкратце опишу процесс, используемый для роста (синтеза) графена методом CVD. ГРАФЕН Особенность графена высокая подвижность носителей заряда. Графен отличается высочайшей теплопроводностью, электропроводностью и способностью изменять эти свойства в зависимости от модификации своей

Подробнее

Пл-на. Рис.1 ВЧ-диодная система для ионно-плазменного травления

Пл-на. Рис.1 ВЧ-диодная система для ионно-плазменного травления 50 Лекция 15 МЕТОДЫ СУХОГО ТРАВЛЕНИЯ 1. Ионное травление представляет собой процесс физического распыления поверхности, за счёт использования кинетической энергии ионов инертных газов (Ar). Существует

Подробнее

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Томский государственный университет На правах рукописи Борисов Дмитрий Петрович Генерация

Подробнее

Тонкие пленки в микроэлектронике

Тонкие пленки в микроэлектронике 3 Федеральное агентство по образованию ТОМСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ СИСТЕМ УПРАВЛЕНИЯ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ (ТУСУР) К.И. Смирнова Тонкие пленки в микроэлектронике Учебно-методическое пособие по аудиторным

Подробнее

МЕТАЛЛЫ И ПОЛУПРОВОДНИКИ: ТЕХНОЛОГИИ И ПРОЦЕССЫ

МЕТАЛЛЫ И ПОЛУПРОВОДНИКИ: ТЕХНОЛОГИИ И ПРОЦЕССЫ МЕТАЛЛЫ И ПОЛУПРОВОДНИКИ: ТЕХНОЛОГИИ И ПРОЦЕССЫ МОДУЛЬ 3. Тонкие пленки и покрытия Лекция 11 Физические методы нанесения тонких пленок. Термическое испарение. Вакуумнодуговое напыление. Методы нанесения

Подробнее

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических УДК 539.216.2, 621.793.18 Р. Т. Галяутдинов, М. В. Елхин, Н. Ф. Кашапов АНОМАЛЬНЫЙ ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД В ВАКУУМЕ В ПРОЦЕССЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКООТРАЖАЮЩИХ СТОМАТОЛОГИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ Ключевые слова: аномально тлеющий

Подробнее

РАБОЧАЯ ПРОГРАММА «Технология изделий интегральной техники»

РАБОЧАЯ ПРОГРАММА «Технология изделий интегральной техники» Министерство образования Республики Беларусь Учреждение образования "Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники" УТВЕРЖДАЮ Декан факультета компьютерного проектирования А. Н.

Подробнее

МАЛОГАБАРИТНЫЕ ВАКУУМНЫЕ НАСОСЫ

МАЛОГАБАРИТНЫЕ ВАКУУМНЫЕ НАСОСЫ ЗАО «ИНТЕК ВАКУУМ» специализируется на поставках высоконадежного промышленного и лабораторного вакуумного оборудования ведущих мировых производителей, проектирует и изготавливает вакуумные технологические

Подробнее

Лекция 7. 1.Высокочастотные емкостные плазмотроны

Лекция 7. 1.Высокочастотные емкостные плазмотроны Лекция 7. 1.Высокочастотные емкостные плазмотроны В настоящее время имеются различные конструкции ВЧЕ плазмотронов. Мы рассмотрим особенности их функционирования на основе схемы плазмотрона, приведенного

Подробнее

Многофункциональные печи

Многофункциональные печи Серия PEO Печи серии РЕО - компактные, экономичные установки, способные выполнять множество технологических задач. Все печи серии оснащены кварцевой быстросъёмной рабочей камерой цилиндрической формы,

Подробнее

ИЗУЧЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ И ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ СЛОЕВ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ

ИЗУЧЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ И ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ СЛОЕВ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ САМАРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ имени академика С.П. КОРОЛЕВА МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ САМАРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ имени академика С.П.

Подробнее

ПОСТАВКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ РАДИОЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ

ПОСТАВКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ РАДИОЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ Рост кристаллов Резка Эпитаксия Химобработка Литография Плазмохимия Термообработка Сборка Измерения ПОСТАВКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ РАДИОЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ Поставка оборудования www.ckto-promproekt.ru

Подробнее

Далее представлены некоторые образцы произведенного нами оборудования

Далее представлены некоторые образцы произведенного нами оборудования Опыт работы более 25 лет. Нашим предприятием за 25 лет существования создано более 120 вакуумных технологических установок и оборудования для производства и научных исследований. Основная часть произведенного

Подробнее

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме.

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Технология и оборудование. Часть II * Для получения толстых диэлектрических покрытий с соблюдением рассмотренных в части I условий и принципов в ООО

Подробнее

Титан. Производство металла Изготовление плавильных печей Выпуск полых слитков для производства цельнотянутых труб

Титан. Производство металла Изготовление плавильных печей Выпуск полых слитков для производства цельнотянутых труб Титан Производство металла Изготовление плавильных печей Выпуск полых слитков для производства цельнотянутых труб Новейшие технологии Технология и оборудование электроннолучевой плавки является наукоемкими

Подробнее

3. На каких физических принципах основана конструкция безазотного гелиевого криостата?

3. На каких физических принципах основана конструкция безазотного гелиевого криостата? ТЕ СТОВЫЕ В ОПРО СЫ ПО ТЕМ А М ЛЕКЦИЙ Лекция 1 1. Какие хладагенты имеют температуру кипения больше жидкого азота, меньше жидкого азота? 2. С помощью каких жидких газов можно получить температуру 22 К?

Подробнее

Физическая химия и технология тонкопленочных химических сенсоров и микросистем

Физическая химия и технология тонкопленочных химических сенсоров и микросистем Белорусский государственный университет УТВЕРЖДАЮ Декан химического факультета Д.В. Свиридов (подпись) (И.О.Фамилия) (дата утверждения) Регистрационный УД- /р. Физическая химия и технология тонкопленочных

Подробнее

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы.

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Ю.В.Агабеков, А.М.Сутырин Из кн. Труды постоянно действующего научно-технического семинара. "Электровакуумная техника

Подробнее

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Уральский государственный университет им. А.М. Горького» ИОНЦ «Нанотехнологии и перспективные

Подробнее

ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ

ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ УДК 537.226.83 ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ С.Г. Нагайчук, Д.П. Аргунов, П.А. Змановский Разработан метод получения тонких пленок TiO x, получены

Подробнее

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Л9 Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Удивительный прогресс в микро- и оптоэлектронике, преобразовавший информационный мир за короткий период непосредственно

Подробнее

Вестник Челябинского государственного университета (254). Физика. Вып. 12. С ЭЛЕКТРОФИЗИКА. (MoO 3

Вестник Челябинского государственного университета (254). Физика. Вып. 12. С ЭЛЕКТРОФИЗИКА. (MoO 3 Вестник Челябинского государственного университета. 2011. 39 (254). Физика. Вып. 12. С. 57 62. ЭЛЕКТРОФИЗИКА Л. Н. Котов И. В. Антонец Р. И. Королев П. А. Макаров СопРОТИвЛЕнИЕ и окисление плёнок железа

Подробнее

Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий

Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий ВИАМ/2010-205694 Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий В.А. Богатов С.С. Захаров П.П. Кисляков А.Г. Крынин Ю.А. Хохлов Ноябрь 2010 Всероссийский институт

Подробнее

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА С ДИСТАНЦИОННЫМ ДОСТУПОМ

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА С ДИСТАНЦИОННЫМ ДОСТУПОМ УДК 621.3.078.4 ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА С ДИСТАНЦИОННЫМ ДОСТУПОМ Кардашин Максим Владимирович Студент 5 курса кафедра «Электронные технологии в машиностроении» Московский государственный технический

Подробнее

СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ

СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ Статья поступила в редакцию 15.01.2014 2014.02.1 СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ Хуболов Б. М., Подлинов В. П. Кабардино-Балкарский государственный

Подробнее

НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ

НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ О КОМПАНИИ НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ ОАО «НПО ПМ МКБ» существует с 2000 года и в настоящее время входит в состав интегрированной структуры созданной на базе ОАО «Информационные спутниковые системы» имени

Подробнее

Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок SiO 2

Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок SiO 2 Научный альманах 016 N 6-(0) Технические науки 15 DOI: 10.17117/na.016.06.0.15 Поступила (Received):.06.016 http://ucom.ru/doc/na.016.06.0.15.pdf Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок

Подробнее

Высоковакуумные крионасосы

Высоковакуумные крионасосы Высоковакуумные крионасосы Обзор их применения и приложений Автор: Гари Эш Нагреватель Цилиндрический фильтр Присоединительный фланец Конденсирующая ступень 80 К Ступень 15 К Радиационная защита 80 К Вакуумный

Подробнее

Новое поколение вакуумных напылительных установок

Новое поколение вакуумных напылительных установок Новое поколение вакуумных напылительных установок А.А. Бикташев, О.В. Желонкин, В.А. Глинкин, А.П. Ляпин ЗАО "ФЕРРИ ВАТТ", г. Казань, Россия Представлены последние разработки установок ЗАО "Ферри Ватт",

Подробнее

Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий

Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий ВИАМ/2011-205957 Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий С.А. Мубояджян доктор технических наук Декабрь 2011 Всероссийский институт авиационных материалов (ФГУП «ВИАМ»

Подробнее

Вакуумные насосы Рутса - механические бустерные насосы ULVAC серия PMB-D

Вакуумные насосы Рутса - механические бустерные насосы ULVAC серия PMB-D Вакуумные насосы Рутса - механические бустерные насосы ULVAC серия PMB-D Механические бустерные насосы (насосы Рутса) используются в качестве усилителей быстроты откачки и величины предельного на входе

Подробнее

Электрические печи сопротивления непрерывного действия (методические) Конвейерные НГТУ, АЭТУ, Шишкин А.В.

Электрические печи сопротивления непрерывного действия (методические) Конвейерные НГТУ, АЭТУ, Шишкин А.В. Электрические печи сопротивления непрерывного действия (методические) Конвейерные 09.12.2012 НГТУ, АЭТУ, Шишкин А.В. 1 1. Введение В печах непрерывного действия (методических) изделия загружаются с одного

Подробнее

1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических

1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических 1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических характеристик микромеханических ключей. 4. Конструктивное

Подробнее

Получение пленок оксида церия на сапфире методом ВЧ магнетронного распыления

Получение пленок оксида церия на сапфире методом ВЧ магнетронного распыления Письма в ЖТФ, 1999, том 25, вып. 11 12 июня 11;12 Получение пленок оксида церия на сапфире методом ВЧ магнетронного распыления Е.К. Гольман, С.В. Разумов, А.В. Тумаркин Государственный электротехнический

Подробнее

Низкотемпературное осаждение слоев диоксида кремния в условиях субатмосферного

Низкотемпературное осаждение слоев диоксида кремния в условиях субатмосферного Васильев В.Ю. ООО «СибИС» (дизайн-центр субмикронного проектирования) Низкотемпературное осаждение слоев диоксида кремния в условиях субатмосферного давления окислением тетраэтоксисилана смесью озон-кислород

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ APEL-MR-IN ТОМСК 2013 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ

Подробнее