Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013

Размер: px
Начинать показ со страницы:

Download "Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013"

Транскрипт

1 Берлин Е. В., Григорьев В. Ю. Вакуумные установки серий Ника-2012 и Ника-2013 ВТТ 2015 Санкт-Петербург

2 Серия «Ника-2012» Современный аналог колпаковых машин серии УВН-71. Состав: Камера нерж. Ø400х350 / Ø500х400 мм с рубашкой охлаждения. Безмасляная откачка (ТМН / КГН). Площадь в плане 2 м2,, с зоной обслуживания - 3 м2. Подвижный нижний фланец: 4 позиции ISO63 для устройств на выбор Плоская карусель для односторонней обработки (6 круглых подложек Ø100 мм / 12 прямоугольных 60х48 мм) или система с переворотом подложек для двусторонней. Быстрая замена карусели под различные подложки. Верхний фланец: 5 отверстий ISO63, возможна установка нагревателя и кварцевого измерителя толщины покрытий. 3 смотровых окна с заслонками, возможна замена на фланец ISO160 с дополнительным оборудованием.

3 Напылительные установки Ника-2012 Установка ионного напыления Ника-2012 ИН Назначение: Шлюзовая установка с индивидуальной загрузкой для напыления плёнок произвольного состава (металлы, диэлектрики, полупроводники). Контролируемое нанесение многослойных покрытий в произвольной программируемой последовательности с 6 мишеней. Ассистирование процесса нанесения плазмой высокой плотности (IPVD). Нанесение как в среде инертного газа, так и с реактивными процессами напыления соединений. Подложки до d100 мм. Технологии: Ионно-лучевое распыление проводников и диэлектриков, катодное распыление проводников, реактивное напыление диэлектриков, ионное осаждение.

4 Напылительные установки Ника-2012 Установка термического напыления Ника-2012 ТН Назначение: термическое напыление материалов с предварительной ионной очисткой и магнетронным напылением подслоя. Технологии: ионная очистка подложек, в том числе низкоэнергетическая (энергия ионов до 40 эв); магнетронное напыление подслоя с высокой адгезией; восстановительная обработка в водородной плазме; сухое снятие фоторезиста травлением в кислородной или водородной плазме; контроль толщины наносимого слоя по свидетелю сопротивления, кварцевому измерителю толщины либо по времени; термическое напыление проводящих и резистивных слоёв.

5 Напылительные установки Ника-2012 Установка напыления резистивных слоев Ника-2012 РС Назначение: напыление резистивных слоев, ионно-плазменная очистка и травление, плазмохимическое («сухое») снятие фоторезиста. Технологии:Магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней. Ионная очистка и травление слоёв. Сухое снятие фоторезиста. Нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя. Напыление/травление заданного номинала по свидетелю сопротивления.

6 Напылительные установки Ника-2012 Установка напыления проводящих слоев Ника-2012 ПС Назначение: Установка для нанесения толстых металлических слоёв методом магнетронного распыления (термовакуумного испарения в магнетронном разряде) на керамические подложки. Для обеспечения адгезии проводящего слоя предусмотрено напыление металлического (Cr, Ti, Ta) / диэлектрического подслоя. В последнем случае обеспечивается минимальные резистивные потери в СВЧ схемах. Технологии: Ионная очистка подложек. Магнетронное распыление металлических мишеней. Магнетронное распыление магнитных материалов (Ni). Термовакуумное испарение в магнетронном разряде с высокой скоростью нанесения (до 1 мкм/мин на вращающуюся карусель, до 60 мкм полной толщины на всю загрузку). Напыление диэлектрического подслоя (опционально). Опционально восстановительная обработка в водородной плазме, заменяющая высокотемпературный отжиг, а также травление органических материалов.

7 Плазмохимические установки Ника-2012 Установка магнетронного осаждения/травления Ника-2012 МО/МТ Назначение: Установка для ионной и плазмохимической обработки подложек в среде высокоплотной плазмы. Подложки размещаются с 2 сторон на плоском водоохлаждаемом электроде с гелиевым теплоотводом, вокруг которого в среде инертных или химически активных газов зажигается высокочастотный магнетронный разряд с высокой однородностью плотности ионного тока. Размер зоны обработки на каждой стороне 200х200 мм. Подложки от 25 до 200 мм. Технологии: Плазмостимулированное осаждение из газовой фазы (PECVD) диэлектрических слоев различных материалов в атмосфере кремнийсодержащих газов высокочастотном магнетронном разряде. Плазмохимическое травление материалов в кислородной, водородной или фторной плазме. Ионное травление металлических слоёв в плазме аргона. Скорость травления по меди до 0,4 мкм/мин, ограничена только предельной температурой подложки.

8 Технологические устройства для Ника-2012

9 Серия «Ника-2013» Современный аналог машин серий УВН Промышленные установки большой производительности. Состав: Цилиндрическая камера с горизонтальной осью из нержавеющей стали Ø700х500 мм с рубашкой охлаждения. Безмасляная откачка (КГН / ТМН, сухой спиральный насос). Система горизонтального перемещения фланцев для удобства перегрузки и обслуживания. Сменный комплект носителей для снижения затрат времени на перезагрузку. 2.5 м 2 в плане. Задний фланец: 7 позиций ISO63 для технологических устройств: до 4 магнетронов, нагреватель, ионный источник. Передний фланец: барабан диаметром 600 мм с горизонтальной осью, автоматическая система привода заслонок. Обработка с однородностью не хуже 2%. Возможность установки до 4 окон с заслонками. Вместо любого из окон можно установить фланец ISO100 для дополнительного оборудования. Загрузка: 128 прямоугольных подложек 60x48 / 48 круглых Ø100.

10 Самая компактная установка в своём классе

11 Самая компактная установка в своём классе

12 Напылительные установки Ника-2013 Установки магнетронного напыленияника-2013 РС и Ника-2013 ПС Назначение: напыление резистивных, диэлектрических или проводящих слоёв, ионная очистка и травление Технологии: Магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней. Нанесение слоёв сложного состава сонапылением из двух мишеней. Ионная очистка и травление слоёв. Нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя. Напыление/травление заданного номинала по свидетелю сопротивления. Сверхскоростное термовакуумное напыление в магнетронном разряде. Состав: Барабан для одностороннего нанесения. До 4 магнетронов для напыления подслоя, резистивного слоя или проводящего (из металлических или силицидных мишеней) и защитного слоя. Источник ионов для активации подложек и травления слоёв. Нагреватель с функцией поддержания заданной температуры канала подачи рабочих газов.

13 Плазмохимические установки Ника-2013 Установка магнетронного осаждения/травления Ника-2013 МО/МТ Назначение: Установка для ионной и плазмохимической обработки подложек в среде высокоплотной плазмы. Подложки размещаются на внешней поверхности шестигранного электрода с гелиевым теплоотводом, снаружи которого в среде инертных или химически активных газов зажигается высокочастотный магнетронный разряд с высокой однородностью плотности ионного тока. Размер зоны обработки на каждой грани 300х300 мм. Подложки от 25 до 300 мм. Технологии: Плазмостимулированное осаждение из газовой фазы (PECVD) диэлектрических слоев различных материалов в атмосфере кремнийсодержащих газов в высокочастотном магнетронном разряде. Плазмохимическое травление материалов в кислородной, водородной или фторной плазме. Ионное травление металлических слоёв в плазме аргона. Скорость травления по меди до 0,4 мкм/мин, ограничена только предельной температурой подложки. Состав: Плазмохимический реактор специальной конструкции. До 4 каналов газонапуска.

14 Технологические устройства для Ника-2013

Вакуумные методы нанесения покрытий. ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград

Вакуумные методы нанесения покрытий. ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград Вакуумные методы нанесения покрытий ООО «Лаборатория вакуумных технологий», Зеленоград Преимущества вакуумных методов Неагрессивная среда Стабильность технологии Низкие эксплуатационные расходы Экологичность

Подробнее

Содержание. Введение... 8

Содержание. Введение... 8 Содержание Введение... 8 ЧАСТЬ 1. НАПЫЛЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК...11 Глава 1. Технологические особенности нанесения резистивных слоев...11 1.1 Резисторы из силицидов тугоплавких металлов...11 1.2. Способы получения

Подробнее

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12

Ñîäåðæàíèå. Предисловие 11. Введение 12 Ñîäåðæàíèå Предисловие 11 Введение 12 Глава 1. Пробои на катоде магнетрона 16 1.1. Что такое пробой 16 1.2. Механизм возникновения пробоев на катоде 17 1.3. Причины пробоев на катоде при реактивном магнетронном

Подробнее

Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники

Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" ОАО НИИТМ Новое технологическое оборудование инновационным технологиям микро-, нано-, радиоэлектроники Сентябрь

Подробнее

Курс лекций: «Моделирование и проектирование микро- и наносистем»

Курс лекций: «Моделирование и проектирование микро- и наносистем» Курс лекций: «Моделирование и проектирование микро- и наносистем» Лекция 13: «Конструктивно-технологические варианты реализации тонко- и толстопленочных микросборок» Лектор: д.т.н., доцент И.Е.Лысенко

Подробнее

ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ

ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ ОБЗОРНАЯ ПРЕЗЕНТАЦИЯ КОМПАНИИ 2016 2 СФЕРЫ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ ООО «РУ-ВЭМ» Вакуумная техника и технологии Энергосбережение на основе частотно-регулируемых электроприводов - Проектирование - Производство - Обслуживание

Подробнее

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

НИИ СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПРОМЫШЛЕННЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ В. Одиноков, Г. Павлов http://www.niitm.ru/ info@niitm.ru СПЕЦИАЛИЗИРОВАННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ И РЕАЛИЗАЦИИ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ НИИ точного машиностроения (НИИТМ) основан

Подробнее

ОЧИСТКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫМИ МЕТОДАМИ

ОЧИСТКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННЫМИ МЕТОДАМИ Основными достоинствами спирального компрессора являются: надежность; низкий уровень шума, в том числе и во время пуска (начала работы); низкая вибрация; компактность; небольшой вес компрессора; низкое

Подробнее

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике»

Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» Типовая программа повышения квалификации по курсу «Технология вакуумных тонкопленочных покрытий в оптике» п/п Лекционные занятия Варианты курсов Прим. Наименование раздела, темы «Оператор» 0лк 0 пр., нед.

Подробнее

Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования

Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования Регулирование механических свойств углеродных покрытий путем их многокомпонентного легирования 1. Цели и задачи исследования Разработка методов получения твердых, износостойких покрытий на основе углерода

Подробнее

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700

Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий. UniCoaT 700 Вакуумная установка нанесения нанокомпозитных покрытий Производство всех типов нанокомпозитных покрытий различного назначения (упрочняющих, защитных, трибологических, многофункциональных и др.) для широкого

Подробнее

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ

ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВСЕРОССИЙСКИЙ НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ОБОРУДОВАНИЕ, ВЫПУСКАЕМОЕ ВИАМ ВИАМ предлагает изготовление и поставку оборудования

Подробнее

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев

Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев Оптические пленки, напыленные с ионным ассистированием при помощи источника HCS Е.В. Клюев ООО «Ионные источники и Технологии», Московская область, Россия. Нанесение оптических покрытий с ионным ассистированием

Подробнее

Требования к уровню освоения учебного курса

Требования к уровню освоения учебного курса Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Московский физико-технический институт (государственный университет)» Ректор МФТИ УТВЕРЖДАЮ Н.Н. Кудрявцев Программа краткосрочного

Подробнее

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ УДК 621.923 ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК РАСПЫЛЕНИЕМ МАТЕРИАЛА ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ С.И.Шкурат, кандидат химических наук, доцент Национальный кораблестроительный университет им.адм. Макарова П.Н.Полянский, асистент

Подробнее

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы.

Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Несбалансированные магнетронные распылительные системы с усиленной ионизацией плазмы. Ю.В.Агабеков, А.М.Сутырин Из кн. Труды постоянно действующего научно-технического семинара. "Электровакуумная техника

Подробнее

Ионно-плазменные технологии и оборудование

Ионно-плазменные технологии и оборудование Ионно-плазменные технологии и оборудование ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ ПО ОБРАБОТКЕ ЛИСТОВОГО СТЕКЛА: СЕРИЯ «ОПАЛ» Предназначены для осаждения низкоэмиссионных, отражающих и тонирующих покрытий на лстовое

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ПРОТЯЖЕННЫЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ APEL-IS-L200 ТОМСК 2013 1 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ ИИ...3 3.

Подробнее

ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА

ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА УДК 621.793.06 Студенческая научная весна 2010: Машиностроительные технологии ПРИМЕНЕНИЕ ТРЕХМЕРНЫХ САПР ДЛЯ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ВАКУУМНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ МОДУЛЬНОГО ТИПА Куликов Игорь Николаевич,

Подробнее

ТЕХНОЛОГИЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ПРИ МИКРОСБОРКЕ

ТЕХНОЛОГИЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ПРИ МИКРОСБОРКЕ ТЕХНОЛОГИЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ПРИ МИКРОСБОРКЕ О.Симонов 1 УДК 621.79.02 ВАК 05.27.06 + 05.11.14 Плазменные процессы широко применяются в производстве электронных компонентов. Среди них особенно часто используются:

Подробнее

«КОМБИНИРОВАННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ СОЗДАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ КЕРАМИЧЕСКИХ ПЛАТ» Докладчик: инженер-химик 2 кат. Солодовникова О. И г.

«КОМБИНИРОВАННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ СОЗДАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ КЕРАМИЧЕСКИХ ПЛАТ» Докладчик: инженер-химик 2 кат. Солодовникова О. И г. «КОМБИНИРОВАННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ СОЗДАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ КЕРАМИЧЕСКИХ ПЛАТ» Докладчик: инженер-химик 2 кат. Солодовникова О. И. 2016 г. Для создания надежных устройств микроэлектроники встаѐт вопрос о создании

Подробнее

В. И. Яковлев, Е. В. Аношкина, В. В. Бузаев Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова, г. Барнаул

В. И. Яковлев, Е. В. Аношкина, В. В. Бузаев Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова, г. Барнаул УДК 6. ПОЛУЧЕНИЕ ОБРАЗЦОВ ПОВЕРХНОСТЕЙ С СЕЛЕКТИВНЫМ ПОКРЫТИЕМ ДЛЯ СОЛНЕЧНЫХ КОЛЛЕКТОРОВ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СОВРЕМЕННОГО ПРОИЗВОДСТВЕННОГО ОПЫТА В УСЛОВИЯХ ЛАБОРАТОРНОЙ БАЗЫ В. И. Яковлев, Е. В. Аношкина,

Подробнее

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов

Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Л9 Методы получения и механизмы роста твердых тонких пленок неорганических материалов Удивительный прогресс в микро- и оптоэлектронике, преобразовавший информационный мир за короткий период непосредственно

Подробнее

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н.

С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. УДК 621.793.6:669.35 С. Н. Бобраков (1), зам. гл. инженера, к.т.н. В. Д. Малыгин (1), зам. гл. инженера, к.т.н. Г. П. Малышев (2), профессор, к.т.н. МАГНЕТРОННЫЙ МЕТОД НАНЕСЕНИЯ СЕРЕБРЯНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ

Подробнее

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ»

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ ПО НАПРАВЛЕНИЮ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ВВЕДЕНИЕ «ОБЩЕИНЖЕНЕРНАЯ ЭРУДИЦИЯ» Первичные определения и понятия о тонких пленках, вакуумных методах

Подробнее

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических

Исследованы параметры аномального тлеющего разряда в вакууме и разработана ионно-плазменная технология получения широкополосных стоматологических УДК 539.216.2, 621.793.18 Р. Т. Галяутдинов, М. В. Елхин, Н. Ф. Кашапов АНОМАЛЬНЫЙ ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД В ВАКУУМЕ В ПРОЦЕССЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКООТРАЖАЮЩИХ СТОМАТОЛОГИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ Ключевые слова: аномально тлеющий

Подробнее

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O

Общий вид вакуумной установки BRV 700-O Семейство вакуумных установок BRV 700-O для нанесения многослойных функциональных покрытий на оптические элементы (базовая модель, максимальная комплектация). Вакуумная установка типа BRV 700-O является

Подробнее

Лекция 3 Тема: Гибридные интегральные микросхемы

Лекция 3 Тема: Гибридные интегральные микросхемы Лекция 3 Тема: Гибридные интегральные микросхемы 1. Тонкопленочные гибридные ИС. 2. Формирование проводящих пленок. 3. Формирование резистивных пленок. 4. Монтажные операции. Гибридные ИС представляют

Подробнее

Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия

Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия УДК 621.793 Оптимизация кинематических режимов магнетронного напыления на основе расчета неравномерности покрытия Введение Демидов П.С., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана, кафедра

Подробнее

Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий

Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий ВИАМ/2010-205694 Влияние режимов магнетронного напыления на оптико-физические свойства медных нанопокрытий В.А. Богатов С.С. Захаров П.П. Кисляков А.Г. Крынин Ю.А. Хохлов Ноябрь 2010 Всероссийский институт

Подробнее

Руководство пользователя

Руководство пользователя ООО "Прикладная Электроника" Руководство пользователя для протяженной магнетронной распылительной системы с вращающимся цилиндрическим катодом Пожалуйста, внимательно ознакомьтесь с настоящим руководством

Подробнее

Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение (CVD)

Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение (CVD) Учебное пособие Dow Corning. Газофазное осаждение () Формирование кристаллов микросхем (чипов) на подложке требует осуществления сложной последовательности высокоточных процессов. Многие из этих операций

Подробнее

Получение пленок методом распылительной сушки

Получение пленок методом распылительной сушки Получение пленок методом распылительной сушки Список основных характеристик качества пленки 1. Чистота. В большинстве случаев требуется высокочистая пленка для модификации электрических, магнитных, механических

Подробнее

Кратко о MiaTech. Все наши сотрудники имеют профильное образование и большой опыт работы в области тонкоплёночных технологий и оборудования

Кратко о MiaTech. Все наши сотрудники имеют профильное образование и большой опыт работы в области тонкоплёночных технологий и оборудования Кратко о MiaTech Мы молодая, динамично развивающаяся компания, созданная сотрудниками и выпускниками кафедры «Электронные технологии в машиностроении» МГТУ им. Н.Э. Баумана Все наши сотрудники имеют профильное

Подробнее

ОБОРУДОВАНИЕ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОМПЛЕКСА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОУЗЛОВ НА КРЕМНИЕВЫХ И АЛЮМИНИЕВЫХ ПОДЛОЖКАХ. [Фрагмент проекта]

ОБОРУДОВАНИЕ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОМПЛЕКСА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОУЗЛОВ НА КРЕМНИЕВЫХ И АЛЮМИНИЕВЫХ ПОДЛОЖКАХ. [Фрагмент проекта] ОБОРУДОВАНИЕ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОМПЛЕКСА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОУЗЛОВ НА КРЕМНИЕВЫХ И АЛЮМИНИЕВЫХ ПОДЛОЖКАХ [Фрагмент проекта] Эволюция технологий 3D сборки 2 Стандартные подложки для

Подробнее

Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения)

Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения) Модернизированные плазмооптические приборы для генерации и управления сильноточными пучками тяжёлых ионов (фундаментальные результаты и приложения) А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, А.Н. Евсюков, И.М.

Подробнее

ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ

ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ УДК 537.226.83 ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ МЕМРИСТОРНОГО ТИПА НА ОСНОВЕ ПЛЕНОК TiО 2 TiO x НАНОМЕТРОВОЙ ТОЛЩИНЫ С.Г. Нагайчук, Д.П. Аргунов, П.А. Змановский Разработан метод получения тонких пленок TiO x, получены

Подробнее

Секция: физика Университетский Лицей 1511 предуниверситария НИЯУ МИФИ 115522, г. Москва Пролетарский проспект д. 6, корп. 3 тел: (495) 788-56-99, e-mail: sch_1511@gor.educom.ru Осаждение пористых кремниевых

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ APEL-MR-IN ТОМСК 2013 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ

Подробнее

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме.

Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. Методы формирования наноразмерных тонких пленок в вакууме. д.т.н. Григорьянц А.Г., к.т.н. Мисюров А.И., аспирант Макаров В.В. Проведен анализ вакуумных методов формирования квантоворазмерных наноструктур.

Подробнее

Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок SiO 2

Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок SiO 2 Научный альманах 016 N 6-(0) Технические науки 15 DOI: 10.17117/na.016.06.0.15 Поступила (Received):.06.016 http://ucom.ru/doc/na.016.06.0.15.pdf Попова К.В. Механизм процесса осаждения защитных пленок

Подробнее

Краткий обзор CVD процессов, CVD-систем и их компонентов

Краткий обзор CVD процессов, CVD-систем и их компонентов Группа компаний КРИОСИСТЕМЫ Краткий обзор CVD процессов, CVD-систем и их компонентов Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) (англ. Chemical vapor deposition, CVD) это метод получения тонких пленок

Подробнее

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической,

Краткая характеристика создаваемой/созданной научной (научнотехнической, Аннотация проекта (ПНИЭР), выполняемого в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 2020 годы» Номер Соглашения о предоставлении

Подробнее

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49

Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Установка термического отжига в управляемой газовой среде STE ThA 49 Описание 1 Назначение и область применения установки термического отжига в управляемой газовой среде 1.1 Назначение: Установка предназначена

Подробнее

Государственный университет «Дубна»

Государственный университет «Дубна» Разработка технологии вакуумного осаждения для серийного производства гибких фотоэлектрических модулей на основе сульфида и теллурида кадмия Государственный университет «Дубна» Общая информация о проекте

Подробнее

Магнетронное напыление прозрачных электродов ITO из металлической мишени на холодную подложку

Магнетронное напыление прозрачных электродов ITO из металлической мишени на холодную подложку Журнал технической физики, 04, том 84, вып. 0 Магнетронное напыление прозрачных электродов ITO из металлической мишени на холодную подложку Л.П. Амосова, М.В. Исаев Санкт-Петербургский национальный исследовательский

Подробнее

РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ

РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ На правах рукописи СОЛОВЬЕВ АНДРЕЙ АЛЕКСАНДРОВИЧ УСТРОЙСТВА СО СКРЕЩЕННЫМИ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ И МАГНИТНЫМ ПОЛЯМИ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

Подробнее

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ

РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ООО Прикладная Электроника РУКОВОДСТВО ПОЛЬЗОВАТЕЛЯ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ APEL-IS-7CELL ТОМСК 2012 ОГЛАВЛЕНИЕ 1. ВВЕДЕНИЕ...3 2. НАЗНАЧЕНИЕ...3 3. СОСТАВ ИИ...3 4. ПРИНЦИП РАБОТЫ

Подробнее

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом

Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом УДК 67.05 Влияние парциального состава газовой смеси на характеристики магнетронного разряда с алюминиевым катодом Зимин Д.Д., студент Россия, 105005, г. Москва, МГТУ им. Н.Э. Баумана, кафедра «Плазменные

Подробнее

Комбинированная технология - изготовление контактных площадок и контактов

Комбинированная технология - изготовление контактных площадок и контактов Комбинированная технология - изготовление контактных площадок и контактов Индивидуальная лабораторная работы для студентов кафедр ФТН и ФТТ факультета ФОПФ МФТИ Цель работы - освоение многостадийной технологии

Подробнее

ООО ЛВТ. Паспорт. Источник ионов ЛЦМК ПС. Ионный источник ЛЦМК Паспорт. Перв. примен. Справ.

ООО ЛВТ. Паспорт. Источник ионов ЛЦМК ПС. Ионный источник ЛЦМК Паспорт. Перв. примен. Справ. Взам. дубл. Справ. Перв. примен. Разраб. Пров. Н. контр. Утв. Источник ионов ЛЦМК.218.00.00.00.000 Паспорт Ионный источник Паспорт Лит. ов 1 20 ООО ЛВТ Содержание 1.Введение...3 2.Назначение...4 3.Технические

Подробнее

1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических

1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических 1. Принцип действия микромеханических ключей. 2. Материаловедческий базис микромеханических ключей. 3. Моделирование статических и динамических характеристик микромеханических ключей. 4. Конструктивное

Подробнее

ПОВЫШЕНИЕ АДГЕЗИИ ВАКУУМНЫХ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ К СТЕКЛОПЛАСТИКУ

ПОВЫШЕНИЕ АДГЕЗИИ ВАКУУМНЫХ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ К СТЕКЛОПЛАСТИКУ МАШИНОСТРОЕНИЕ И МАШИНОВЕДЕНИЕ 57 УДК 678.29:66 ПОВЫШЕНИЕ АДГЕЗИИ ВАКУУМНЫХ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ К СТЕКЛОПЛАСТИКУ П. Д. ПЕТРАШЕНКО Учреждение образования «Гомельский государственный технический университет

Подробнее

Установка электроннолучевого напыления

Установка электроннолучевого напыления ООО «Остек-ЭТК» Молодогвардейская ул., д. 7, стр. 4, Москва, Россия, 121467 Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42, www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru, etc@ostec-group.ru ИНН 7731481052,

Подробнее

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Уральский государственный университет им. А.М. Горького» ИОНЦ «Нанотехнологии и перспективные

Подробнее

1. Цели освоения дисциплины

1. Цели освоения дисциплины 1. Цели освоения дисциплины Целью освоения дисциплины является изучение физических явлений, происходящих на различных этапах процесса напыления и роста пленок; существующих теорий роста тонких пленок,

Подробнее

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме.

Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Нанесение толстых диэлектрических покрытий в вакууме. Технология и оборудование. Часть II * Для получения толстых диэлектрических покрытий с соблюдением рассмотренных в части I условий и принципов в ООО

Подробнее

Разработка карбид-кремниевых pin-диодов для мощных защитных СВЧ устройств

Разработка карбид-кремниевых pin-диодов для мощных защитных СВЧ устройств В.В. Волков, В.Н. Вьюгинов, Ю.С. Кузьмичёв, В.С. Макушина, С.Н. Морозов, В. А. Петров ЗАО «Светлана-Электронприбор» Разработка карбид-кремниевых pin-диодов для мощных защитных СВЧ устройств Представлены

Подробнее

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ»

ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ТИПОВАЯ ПРОГРАММА ОБУЧЕНИЯ «ИНЖЕНЕР-ТЕХНОЛОГ ВАКУУМНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОПТИКЕ» ИНЖЕНЕРНО- ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ ИЗОВАК-БГУИР 2013 ИНЖЕНЕРНО- ОБРАЗОВАТЕЛЬНЫЙ ЦЕНТР НАНОТЕХНОЛОГИЙ

Подробнее

Л е к ц и я 8 О к и с л е н и е Т е х н о л о г и я и з г о т о в л е н и я п / п п р и б о р о в 21

Л е к ц и я 8 О к и с л е н и е Т е х н о л о г и я и з г о т о в л е н и я п / п п р и б о р о в 21 Л е к ц и я 8 О к и с л е н и е Т е х н о л о г и я и з г о т о в л е н и я п / п п р и б о р о в 21 Лекция 8 ХАРАКТЕРИСТИКИ ОКИСЛА В зависимости от условий выращивания окисла (температуры, давления и

Подробнее

ПЕРСПЕКТИВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ РАЗВИТИЯ И ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ

ПЕРСПЕКТИВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ РАЗВИТИЯ И ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ ПЕРСПЕКТИВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ РАЗВИТИЯ И ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АВИАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ Абдулкаев Э.Р., Осипов Е.В. Оренбургский государственный университет Аэрокосмический институт, г. Оренбург Внедрение композиционных

Подробнее

СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ

СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ Статья поступила в редакцию 15.01.2014 2014.02.1 СИСТЕМЫ РЕАЛИЗАЦИИ ВАКУУМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ И ИХ СОЕДИНЕНИЙ Хуболов Б. М., Подлинов В. П. Кабардино-Балкарский государственный

Подробнее

РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ

РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК СИБИРСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ ИНСТИТУТ СИЛЬНОТОЧНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ На правах рукописи РАБОТКИН СЕРГЕЙ ВИКТОРОВИЧ НАНЕСЕНИЕ ПРОЗРАЧНЫХ ПРОВОДЯЩИХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ ОКСИДА ЦИНКА МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО

Подробнее

Раздел 2. Биполярные структуры

Раздел 2. Биполярные структуры Раздел 2. Биполярные структуры Рис. 2.1. Операции по созданию скрытого слоя. а) исходная пластина Si после очистки, отмывки, сушки; б) пластина с выращенным термическим окислом; в) вскрытие окон; г) диффузия

Подробнее

Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7

Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7 Сведения об авторах... 6 Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления... 7 Глава 1 Причины нестабильности реактивного распыления... 8 1.1. Два стабильных состояния мишени в процессе реактивного

Подробнее

1. Цели освоения дисциплины

1. Цели освоения дисциплины 1. Цели освоения дисциплины Целью освоения дисциплины является изучение физических явлений, происходящих на различных этапах процесса напыления и роста пленок; существующих теорий роста тонких пленок,

Подробнее

Лекция 24. Технологические операции сверления и резки металлов с помощью лазера.

Лекция 24. Технологические операции сверления и резки металлов с помощью лазера. Лекция 24. Технологические операции сверления и резки металлов с помощью лазера. 1. Лазерное сверление отверстий. Сверление отверстий заключается в удалении локально расплавленного материала под воздействием

Подробнее

УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ

УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ УСКОРИТЕЛИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ 1 У С К О Р И Т Е Л И Э Л Е К Т Р О Н О В Д Л Я Р А Д И А Ц И О Н Н О Й Д Е Ф Е К Т О С К О П И И п/п Наименование параметра Обозначение УЭЛР-6-2Д УЭЛР-8-2Д

Подробнее

Болбуков Василий Петрович

Болбуков Василий Петрович Министерство образования и науки Российской Федерации Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Московский государственный технологический

Подробнее

МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК

МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК Министерство образования Республики Беларусь Учреждение образования «Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины» В. А. Гольдаде, Н. Н. Федосенко МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК Практическое

Подробнее

МОДЕРНИЗИРОВАННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ СВАРКИ, ПАЙКИ И НАПЛАВКИ РАЗНОРОДНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ И В ГАЗОВЫХ СРЕДАХ

МОДЕРНИЗИРОВАННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ СВАРКИ, ПАЙКИ И НАПЛАВКИ РАЗНОРОДНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ И В ГАЗОВЫХ СРЕДАХ УДК 621.791.754.005.571.11 Виноградов В.Г. магистрант кафедры «Машины и автоматизация сварочного производства» 15.04.02 Технологические машины и оборудование Донской государственный технический университет

Подробнее

Технологические особенности выбора материалов и методов напыления узлов гироприборов 73 С. Н. БЕЛЯЕВ

Технологические особенности выбора материалов и методов напыления узлов гироприборов 73 С. Н. БЕЛЯЕВ Технологические особенности выбора материалов и методов напыления узлов гироприборов 73 УДК 621. 793. 18 С. Н. БЕЛЯЕВ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСОБЕННОСТИ ВЫБОРА МАТЕРИАЛОВ И МЕТОДОВ НАПЫЛЕНИЯ УЗЛОВ ГИРОПРИБОРОВ

Подробнее

МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ. Федеральное агентство по образованию

МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ. Федеральное агентство по образованию МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Федеральное агентство по образованию Московский государственный институт электроники и математики (Технический университет) Ф.И.ГРИГОРЬЕВ ОСАЖДЕНИЕ

Подробнее

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г.

Материалы Международной научно-технической конференции, ноября 2011 г. Материалы Международной научно-технической конференции, 14 17 ноября 2011 г. МОСКВА INTERMATIC 2 0 1 1, часть 2 МИРЭА ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ НАНОРАЗМЕОНЫХ ПЛЕНОК НИТРИДА

Подробнее

Изучение технологии изготовления тонкопленочных гибридных интегральных схем

Изучение технологии изготовления тонкопленочных гибридных интегральных схем Министерство образования Российской Федерации Московский государственный институт электронной техники (Технический университет) Э.М.Ильина Изучение технологии изготовления тонкопленочных гибридных интегральных

Подробнее

Курсовой проект. На тему:

Курсовой проект. На тему: Московский государственный авиационный институт (технический университет) Курсовой проект На тему: «Расчет основных параметров ионного двигателя» Выполнил: Студент группы 02-414 Нигматзянов В.В. Проверил:

Подробнее

05;11;12. PACS: z, a

05;11;12.   PACS: z, a 05;11;12 Магнетронное напыление молибденовых зеркал и зеркальной микронной фольги со столбчатой упорядоченной нанокристаллитной структурой А.В. Рогов, К.Ю. Вуколов Российский научный центр Курчатовский

Подробнее

Требования к уровню освоения учебного курса

Требования к уровню освоения учебного курса Программа краткосрочного повышения квалификации преподавателей и научных работников высшей школы по направлению «Наноэлектроника, компонентная база и устройства. Физические принципы. Применяемые технологии

Подробнее

Исследование оптических свойств тонких пленок сульфида цинка и оксида цинка. Выполнила аспирант ОмГУ: Богданова Елизавета Владимировна

Исследование оптических свойств тонких пленок сульфида цинка и оксида цинка. Выполнила аспирант ОмГУ: Богданова Елизавета Владимировна Исследование оптических свойств тонких пленок сульфида цинка и оксида цинка Выполнила аспирант ОмГУ: Богданова Елизавета Владимировна Цель работы: получение экспериментальных данных об оптических свойствах

Подробнее

Хімічні технології та екологічна безпека

Хімічні технології та екологічна безпека УДК 675.04 СОЗДАНИЕ НАТУРАЛЬНЫХ КОЖ С УЛУЧШЕННЫМИ СВОЙСТВАМИ ЗА СЧЕТ ИХ ПЛАЗМЕННОЙ МОДИФИКАЦИИ Рахматуллина Г. Р. Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального

Подробнее

БАКАЛАВРСКАЯ РАБОТА Тема работы ИССЛЕДОВАНИЕ АЛЮМИНИЕВЫХ ПОКРЫТИЙ, ПОЛУЧЕННЫХ С ПОМОЩЬЮ МАГНЕТРОННОЙ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЙ СИСТЕМЫ С ЖИДКОФАЗНОЙ МИШЕНЬЮ

БАКАЛАВРСКАЯ РАБОТА Тема работы ИССЛЕДОВАНИЕ АЛЮМИНИЕВЫХ ПОКРЫТИЙ, ПОЛУЧЕННЫХ С ПОМОЩЬЮ МАГНЕТРОННОЙ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЙ СИСТЕМЫ С ЖИДКОФАЗНОЙ МИШЕНЬЮ Министерство образования и науки Российской Федерации федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ТОМСКИЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ»

Подробнее

JETCLIP. Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности. 200 мм RTР/RTCVD кластерная система

JETCLIP. Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности. 200 мм RTР/RTCVD кластерная система JETCLIP 200 мм RTР/RTCVD кластерная система Эпитаксиальные Si и SiGe Многофункциональные возможности Модель Jipelec JetClip разработана для RTP процессов в производстве SEMI- MESC пластин диаметром до

Подробнее

Лекция 4 Тема: Гибридные интегральные микросхемы (Продолжение)

Лекция 4 Тема: Гибридные интегральные микросхемы (Продолжение) Лекция 4 Тема: Гибридные интегральные микросхемы (Продолжение) 1. Толстопленочные гибридные ИС. 2. Формирование проводящих пленок. 3. Формирование резистивных пленок. 4. Элементы интегральных схем. Пассивные

Подробнее

БИОТЕХНОЛОГИЯ, ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ СУЛЬФИДИРОВАННЫХ НАНОПЛЕНОК НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОРОШКИ

БИОТЕХНОЛОГИЯ, ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ СУЛЬФИДИРОВАННЫХ НАНОПЛЕНОК НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОРОШКИ УДК 538.97 СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ СУЛЬФИДИРОВАННЫХ НАНОПЛЕНОК НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОРОШКИ Л.В. Козырева Метод химического газофазного осаждения металлоорганических соединений как способ создания тонких наноструктурированных

Подробнее

МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ

МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ ПРОМЫШЛЕННЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ Д.Локтев, Е.Ямашкин e.yamashkin@technopolice.ru d.loktev@technopolice.ru МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙЯ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ Состав

Подробнее

Упрочнение методами ионно-плазменной обработки

Упрочнение методами ионно-плазменной обработки 247 сохраняется исходная шероховатость упрочняемой поверхности, но не обеспечивается выполнение повышенных требований к твердости и износостойкости упрочненного слоя, образуемого в результате одновременного

Подробнее

Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения

Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения Трехслойные наноструктуры интерференционных фильтров Фабри-Перо высокого разрешения Денисов А.А. Руководитель: Шахнов В.А., д.т.н., проф. кафедры ИУ4 МГТУ им. Н.Э.Баумана Цель работы Цель работы: Разработка

Подробнее

Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий

Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий ВИАМ/2011-205957 Промышленное ионно-плазменное оборудование для нанесения защитных покрытий С.А. Мубояджян доктор технических наук Декабрь 2011 Всероссийский институт авиационных материалов (ФГУП «ВИАМ»

Подробнее

Вакуумное оборудование планарного цикла. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование»

Вакуумное оборудование планарного цикла. Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» Вакуумное оборудование планарного цикла Закрытое акционерное общество «Научное и тенологическое оборудование» О компании Закрытое акционерное общество «Научное и тенологическое оборудование» (ЗАО «НТО»)

Подробнее

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович

Национальный исследовательский Томский государственный университет Борисов Дмитрий Петрович Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Томский государственный университет На правах рукописи Борисов Дмитрий Петрович Генерация

Подробнее

1 Срок службы деталей машин и механизмов и роль поверхности. 1.1 Эксплуатационные условия работы и причины отказа деталей

1 Срок службы деталей машин и механизмов и роль поверхности. 1.1 Эксплуатационные условия работы и причины отказа деталей 1 Срок службы деталей машин и механизмов и роль поверхности 1.1 Эксплуатационные условия работы и причины отказа деталей Срок службы или долговечность Применительно к изделиям машиностроения рассматривают

Подробнее

OrCAD Layout редактор печатных плат (с) 2002 ВГУ, ФКН, ИС, Коваль А.С. 1

OrCAD Layout редактор печатных плат (с) 2002 ВГУ, ФКН, ИС, Коваль А.С. 1 OrCAD Layout редактор печатных плат 04.09.2002 (с) 2002 ВГУ, ФКН, ИС, Коваль А.С. 1 Цикл разработки в OrCAD Ввод описаний проекта Верификация Проектирование платы Формирование файлов для инструментов 04.09.2002

Подробнее

УДК А.А. Черник, канд. хим. наук, доц.; Е.О. Черник; И.М. Жарский, канд. хим. наук, проф. (БГТУ, г. Минск)

УДК А.А. Черник, канд. хим. наук, доц.; Е.О. Черник; И.М. Жарский, канд. хим. наук, проф. (БГТУ, г. Минск) На границе раздела α-фаза интерметаллидные соединения цинка и железа на образцах, оцинкованных в смесях на основе гартцинка, выявлена зона повышенной травимости (рисунок 3,б). Полученные образцы успешно

Подробнее

ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ. 1.Назначение установки

ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ. 1.Назначение установки ТЕХНИЧЕСКОЕ ЗАДАНИЕ на поставку высокопроизводительной автоматизированной установки АТВ-100-14 осаждения профилированных поликристаллических алмазных пленок для теплоотводов. 1.Назначение установки Установка

Подробнее

1 ОБЩИЕ ПОЛОЖЕНИЯ ПО ПРОВЕДЕНИЮ ВСТУПИТЕЛЬНЫХ ИСПЫТАНИЙ ПО ПРИЕМУ В МАГИСТРАТУРУ НА НАПРАВЛЕНИЕ

1 ОБЩИЕ ПОЛОЖЕНИЯ ПО ПРОВЕДЕНИЮ ВСТУПИТЕЛЬНЫХ ИСПЫТАНИЙ ПО ПРИЕМУ В МАГИСТРАТУРУ НА НАПРАВЛЕНИЕ 1 ОБЩИЕ ПОЛОЖЕНИЯ ПО ПРОВЕДЕНИЮ ВСТУПИТЕЛЬНЫХ ИСПЫТАНИЙ ПО ПРИЕМУ В МАГИСТРАТУРУ НА НАПРАВЛЕНИЕ 11.04.03 «Конструирование и технология электронных средств» 1.1 Настоящая Программа составлена в соответствии

Подробнее

Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком

Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком 26 июня 06;10;12 Исследование процесса сухого травления нитрида алюминия ионным пучком Д.М. Демидов, Р.В. Леус, В.П. Чалый Центр перспективных технологий и разработок, С.-Петербург Поступило в Редакцию

Подробнее

«ТОМСКИЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ»

«ТОМСКИЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ» ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «ТОМСКИЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ» В.П. Кривобоков, Н.С. Сочугов, А.А Соловьёв ПЛАЗМЕННЫЕ

Подробнее

Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 "О внесении

Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 О внесении Постановление Минтруда РФ от 5 декабря 1994 г. N 75 "О внесении дополнений в Единый тарифноквалификационный справочник работ и профессий рабочих, выпуск 20" Министерство труда Российской Федерации в связи

Подробнее

Программа дисциплины

Программа дисциплины МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Федеральное государственное автономное учреждение высшего профессионального образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" Институт

Подробнее

ИЗУЧЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ И ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ СЛОЕВ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ

ИЗУЧЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ И ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ СЛОЕВ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ САМАРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ имени академика С.П. КОРОЛЕВА МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ САМАРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ имени академика С.П.

Подробнее